ナノ結晶ゲルマニウム薄膜を用いた熱光発電素子に関する研究

2010 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 20560047
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 応用物理学一般
• 研究機関: 東海大学
• 研究代表者: 磯村 雅夫 東海大学, 工学部, 教授 (70365998)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2010
• キーワード: 熱光発電 / ゲルマニウム / 反応性スパッター

研究概要

赤外光に対する光電変換材料としてナノ結晶ゲルマニウムの開発を行っている。通常、本材料は強くp型を示す欠陥により充分な特性を得ることが出来ないが、微量の酸素をドーピングすることで光感度が現れることを見出した。本研究によりナノ結晶ゲルマニウムが赤外光に感度持つ光電変換素子として期待できることが判明した。

研究成果

• [雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering (2010)
  • 著者名/発表者名: N.Yoshida, Y.Hatano, M.Isomura
  • 雑誌名: Sol.Energy Mater.& Sol.Cells 95 ページ: 175-178
  • 査読あり
• [雑誌論文] Microcrystalline Silicon thin films deposited by the reactive RF magnetron sputtering system (2009)
  • 著者名/発表者名: Yuki Tomita, Masao Isomura
  • 雑誌名: Sol.Energy Mater.& Sol.Cells 93 ページ: 816-819
  • 査読あり
• [雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared by the Reactive RF Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: M.Sugita, Y.Sano, Y.Tomita, M.Isomura
  • 雑誌名: Method J.Non-Cryst Solids 354 ページ: 2113-2116
  • 査読あり
• [雑誌論文] Microcrystalline Silicon-Germanium Thin Films Prepared by the Chemical Transport Process Using Hydrogen Radicals (2008)
  • 著者名/発表者名: H.Kawauchi, M.Isomura, T.Matsui, M.Kondo
  • 雑誌名: J.Non-Cryst.Solids 354 ページ: 109-2112
  • 査読あり
• [雑誌論文] 反応性スパッター法による微結晶シリコンゲルマニウム半導体薄膜の作製 (2008)
  • 著者名/発表者名: 磯村雅夫、中村勲
  • 雑誌名: J.Vac.Soc.Jpn. 51 ページ: 663-667
  • 査読あり
• [学会発表] Effects of CO_2 introduction to the reactive RF sputtering processes for micro-crystalline Ge thin films (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Hatano, N.Yoshida, M.Isomura
  • 学会等名: 25th European Photovoltaic Solar Energy Conference and 5th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion
  • 発表場所: Valencia
  • 年月日: 20100906-20100909
• [学会発表] 反応性スパッタ法によって作製した微結晶Ge薄膜におけるCO_2添加効果 (2010)
  • 著者名/発表者名: 片岡拓郎、江川淳一、畑野雄太、吉田直広、磯村雅夫
  • 学会等名: 第57回応用物理学関係連合演会
  • 発表場所: 東海大学
  • 年月日: 20100317-20100320
• [学会発表] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering (2009)
  • 著者名/発表者名: N.Yoshida, Y.Hatano, M.Isomura
  • 学会等名: 19th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
  • 発表場所: Jeju, Korea, Nov.
  • 年月日: 20091109-20091113
• [学会発表] 水素と不活性ガスの混合ガスを用いた反応性RFスパッタ法により作製した微結晶Ge薄膜 (2009)
  • 著者名/発表者名: 畑野雄太、吉田直弘、磯村雅夫
  • 学会等名: 第56回応用物理学関係連合演会
  • 発表場所: 筑波大学
  • 年月日: 20090330-20090402
• [学会発表] 化学輸送堆積法により作製した微結晶SiGe薄膜における不活性ガス添加効果 (2008)
  • 著者名/発表者名: 上坂祐介、川内弘美、磯村雅夫
  • 学会等名: 第69回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 中部大学
  • 年月日: 20080902-20080905
• [備考] ホームページ等
  • URL: http://www.ei.u-tokai.ac.jp/Isomura-lab/
• [産業財産権] 多結晶ゲルマニウムおよび多結晶シリコンゲルマニウム (2010)
  • 発明者名: 磯村雅夫
  • 権利者名: 学校法人東海大学
  • 産業財産権番号: 2010-045049
  • 出願年月日: 2010-03-02