研究課題
基盤研究(C)
Ti-Ni形状記憶合金を用いたマイクロアクチュエータの応答速度を向上させることを目的とし、第三元素Xを加えたTi-Ni-Xスパッタ薄膜の機械的特性を調査した。その結果、Cuを15%程度加えることで、塑性変形しにくく応答速度の大きな素材とすることができることが明らかとなった。また、その素材を利用したマイクロアクチュエータを作製する技術を確立し、200Hz以上の応答速度があることを示した。
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Films Vol.518
ページ: S26-S28
Materials Science Forum Vol.638-642
ページ: 2068-2073
J.Vac.Soc.Jpn. Vol.51
ページ: 312-315