フッ素化剤-シリコン界面固相反応を用いたシリコン表面の光転写・形状創成一括加工

2010 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 20560107
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 生産工学・加工学
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 打越 純一 大阪大学, 工学研究科, 助教 (90273581)
• 研究分担者: 森田 瑞穂 大阪大学, 工学研究科, 教授 (50157905)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2010
• キーワード: フッ素化剤 / N-フルオロピリジニウム塩 / 光エッチング / 光転写 / シリコン / 3次元形状 / 半導体表面 / 形状創成

研究概要

本研究ではフッ素化剤を用いた新しい光エッチング法を提案した。シリコン表面にフッ素化剤のN-フルオロピリジニウム塩を塗布し、光照射することで、シリコンは照射部で選択的にエッチングされ、液状のN-フルオロピリジニウム塩を用いると固相の場合よりも滑らかなエッチング面が得られた。エッチング速度は光強度や光照射時間に依存しており、これらの条件を制御することで一度の光照射でステップ形状と球面形状の作製を行うことができた。

研究成果

• [雑誌論文] Photoetching of Silicon by N-Fluoro pyridinium Salt (2010)
  • 著者名/発表者名: Kentaro Tsukamoto, Junichi Uchikoshi, Shigeharu Goto, Tatsuya Kawase, Noritaka Ajari, Takabumi Nagai, Kenji Adachi, Kenta Arima, Mizuho Morita
  • 雑誌名: Electrochemical and Solid-State Letters 13 ページ: D80-D82
  • 査読あり
• [雑誌論文] Absolute Line Profile Measurements of Silicon Plane Mirrors by Near-Infrared Inte rferometry (2008)
  • 著者名/発表者名: Junichi UCHIKOSHI, Amane TSUDA, Noritaka AJARI, Taichirou OKAMOTO, Kenta ARIMA, Mizuho MORITA
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 47 ページ: 8978-8981
  • 査読あり
• [雑誌論文] Characterization of Patterned Oxide Buried in Bonded Silicon-on-Insulator Wafers by Near-Infrared Scattering Topography and Microscopy (2008)
  • 著者名/発表者名: Xing WU, Junichi UCHIKOSHI, Takaaki HIROKANE, Ryuta YAMADA, Akihiro TAKEUCHI, Kenta ARIMA, Mizuho MORITA
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 47 ページ: 3041-3045
  • 査読あり
• [学会発表] N-フルオロピリジニウム塩を用いた光エッチングによるシリコン表面の3次元形状の作製 (2011)
  • 著者名/発表者名: 大谷真輝、打越純一、塚本健太郎、永井隆文、足達健二、川合健太郎、有馬健太、森田瑞穂
  • 学会等名: 2011年度精密工学会春季大会学術講演会
  • 発表場所: 東京都
  • 年月日: 2011-03-14
• [学会発表] Consideration of photo-etching mechanism of Si with N-fluoropyridinium salt (2010)
  • 著者名/発表者名: Kentaro Tsukamoto, Junichi Uchikoshi, Masaki Otani, Shigeharu Goto, Yutaka Ie, Takabumi Nagai, Kenji Adachi, Kenta Arima, Mizuho Morita
  • 学会等名: Extended Abstracts of Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
  • 発表場所: Osaka, Japan
  • 年月日: 2010-11-24
• [学会発表] N-フルオロピリジニウム塩を用いたシリコンの光エッチング (2010)
  • 著者名/発表者名: 足達健二、永井隆文、打越純一、塚本健太郎、大谷真輝、森田瑞穂
  • 学会等名: 第34回フッ素化学討論会
  • 発表場所: 札幌市
  • 年月日: 2010-10-19
• [学会発表] N-フルオロピリジニウム塩を用いたシリコンの光エッチング機構の考察 (2010)
  • 著者名/発表者名: 塚本健太郎、打越純一、後藤栄晴、大谷真輝、永井隆文、足達健二、有馬健太、森田瑞穂
  • 学会等名: 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎市
  • 年月日: 2010-09-14
• [学会発表] Formation of Three-Dimensional Shape in Silicon by Photo-etching withN-Fluoropyridinium Salts (2009)
  • 著者名/発表者名: K.Tsukamoto, J.Uchikoshi, S.Goto, T.Nagai, K.Adachi, K.Arima, M.Morita
  • 学会等名: Extended Abstracts of Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
  • 発表場所: Osaka, Japan
  • 年月日: 2009-11-25
• [学会発表] Photo-etching of Silicon by N-Fluoropyridinium Salt (2009)
  • 著者名/発表者名: Shigeharu Goto, Kentaro Tsukamoto, Tatsuya Kawase, Noritaka Ajari, Takabumi Nagai, Kenji Adachi, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita
  • 学会等名: Abstracts of 216th Meeting of The Electrochemical Society
  • 発表場所: Vienna, Austria
  • 年月日: 2009-10-06
• [学会発表] Surface Shape Measurements of Silicon Photo-etched with N-fluoropyridinium salts by Near-infrared Transmission Interferometry (2009)
  • 著者名/発表者名: Junichi Uchikoshi, Noritaka Ajari, Kentaro Tsukamoto, Shigeharu Goto, Takabumi Nagai, Kenji Adachi, Kenta Arima, Mizuho Morita
  • 学会等名: Extended Abstracts of International Workshop on X-ray Mirror Design, Fabrication, and Metrology
  • 発表場所: Suita, Osaka, Japan
  • 年月日: 2009-09-22
• [学会発表] N-フルオロピリジニウム塩を用いたシリコンの3次元形状の作製 (2009)
  • 著者名/発表者名: 塚本健太郎、後藤重晴、永井隆文、足達健二、打越純一、森田瑞穂
  • 学会等名: 2009年度精密工学会秋季大会学術講演会
  • 発表場所: 神戸市
  • 年月日: 2009-09-10
• [学会発表] N-フルオロピリジニウム塩を用いたシリコンの光エッチング (2009)
  • 著者名/発表者名: 後藤栄晴、塚本健太郎、川瀬達也、阿砂利典孝、永井隆文、足達健二、打越純一、森田瑞穂
  • 学会等名: 応用物理学会2009年度春季関係連合講演会
  • 発表場所: つくば市
  • 年月日: 2009-04-01