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2008 年度 実績報告書

パルスプラズマアブレーション技術を導入したプラズマプロセス装置の開発

研究課題

研究課題/領域番号 20560267
研究機関名古屋工業大学

研究代表者

木村 高志  名古屋工業大学, 工学研究科, 准教授 (60225042)

キーワードパルスプラズマ / アブレーション / PTFE / プロセス応用 / 炭素 / フッ素
研究概要

プラズマアブレーションにより固体から発生したガスを原料ガスとして材料プロセスへ応用することを研究目的として、以下のことを行った。
アブレーション用パルスプラズマ装置として電熱加熱型パルスプラズマ推進機、固体原料としてテフロン(PTFE)を用いた場合のパルスプラズマの基本特性を理解するため、放電電流と印加電圧の波形の測定、発光分光法に基づくプラズマ組成の推定を行った。測定した電流と電圧の波形よりμ秒単位ではあるが、kAオーダーの電流が流れ、瞬時電力はMWオーダーに達することが分かった。測定した電流と電圧の波形を基に放電回路をRLC等価回路で表し、その抵抗成分からプラズマ中の電子密度を推定したところ10^<20>-10^<21>m-^3の高密度が推定された。一方、発光分光法に基づくプラズマ組成の推定の結果、PTFEより主に炭素とフッ素が昇華により生成されており、アクチノメトリ法で推定したフッ素原子の密度は10^<20>m^<-3>のオーダーであった。
さらに、混入ガスの違いがプラズマ組成へ及ぼす影響を理解するため、PTFEのアブレーションにより発生したガスと組成が類似と考えられるCF_4ガスとArを含む誘導性結合型プラズマ中へ酸素を混入し、酸素混入がプラズマ組成へ及ぼす影響について検討した。その結果、フッ素原子密度はAr希釈に関係なくCF_4とO_2の混合比が4:1程度になったときに最大となり、また、CF_4とO_2の混合比を4:1、かつ、全圧力と投入電力を一定にした場合、Ar希釈率が70%程度に達するまでフッ素原子密度はAr希釈率に依存しないことが明らかになった。また、モデルより主要なラジカルはフッ素原子、酸素原子であり、CF、CF_2ならびにCF_3ラジカルの密度は低いことが予測された。

  • 研究成果

    (2件)

すべて 2009 2008

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (1件)

  • [雑誌論文] Experiments and global model analysis of inductively coupled CF_4/O_2/Ar plasmas2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kimura, K. Hanaki
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 47

      ページ: 8537-8545

    • 査読あり
  • [学会発表] アプレーション用パルスプラズマの基本特性2009

    • 著者名/発表者名
      木村高志, 飯田将康
    • 学会等名
      平成20年度電気学会全国大会
    • 発表場所
      北海道大学
    • 年月日
      2009-03-19

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公開日: 2010-06-11   更新日: 2016-04-21  

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