研究課題
基盤研究(C)
イオンビーム照射技術により高分子フィルム内部に微小構造を形成させた後、光グラフト重合を用いて、その微小構造内に優先的にスチレングラフト鎖を導入後、スルホン化により電解質膜を得た。得られた電解質膜の膜面方向と膜厚方向のプロトン伝導度を評価したところ、それぞれ0.043S/cm、0.080S/cmと膜厚方向に高いプロトン伝導性を持つ異方伝導性電解質膜を開発することができた。
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Radiat.Phys.Chem. 78
ページ: 1061-0166
膜(MEMBRANE) 33(2)
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