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2011 年度 実績報告書

プラズマプロセスの制御によるアモルファス炭素膜の揺らぎのない成膜プロセスの創成

研究課題

研究課題/領域番号 20684027
研究機関長崎大学

研究代表者

篠原 正典  長崎大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (80346931)

キーワードアモルファス炭素膜 / プラズマプロセス / 多重内部反射 / 赤外吸収分光法 / 反応過程 / ラジカル / 水素の引き抜き / 付加反応
研究概要

ダイヤモンドライクカーボン(DLC)に代表されるアモルファス炭素膜は、化学的・機械的に安定で、摺動性に優れ,低温での成膜が可能であるため、これまで機械部品のコーティングなど産業面で盛んに応用されてきた。これまで以上,組成・構造の制御が必要な医療用具への応用や電子デバイスへの応用には,原子レベルで制御された成膜プロセスが必要である。そのためには,揺るぎないプラズマプロセスを制御したアモルファス炭素膜の成膜プロセスの確立が不可欠である。
そこで、本研究では、「プラズマプロセスによるアモルファス炭素膜の成長メカニズムを明らかにした上で、時々刻々変化する反応性プラズマプロセスを制御する方法を世界に先駆けて提示する」ことが目的である。
本研究では,プラズマプロセス中の水素の役割について調べた。アモルファス炭素膜を堆積した基板に水素プラズマを曝露する際の基板温度を上昇させていくと,水素プラズマによるエッチング効果とともに水素の引き抜き効果も高まることを,赤外分光測定とエッチングレートの関係より明らかにできた。
さらに,アモルファス炭素膜に酸素プラズマを曝露した場合に、これまでOH基が生成されるため親水性が向上することが知られていたが,基板温度を上昇させた場合には,膜中の水素の引き抜きも起こるため,OH基が生成されなくとも親水性が向上することを,赤外分光,エッチング効果,接触角の測定から明らかにした。
また,アモルファス炭素膜の成膜に用いる原料をメタンにかえ,原料分子の分子量を大きくした場合について検討を行ったところ,原料分子の分子量が大きくなると,成膜速度は上昇する。分子中に炭素同士の二重結合があるとさらに向上することがわかった。分子中の2重結合は膜化する時に,単結合へと変化することが赤外分光法より分った。このことより,2重結合同士が付加反応により成長を促進すると考えられる。

現在までの達成度 (区分)
理由

23年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

23年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (14件)

すべて 2012 2011

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (10件) (うち招待講演 2件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Effects of the surface bond states in as-deposited DLC films on the incorporation of nitrogen and oxygen atoms into the DLC films2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Nitta, K. Okamoto, T. Nakatani, M. Shinohara
    • 雑誌名

      IEEE Transactions of Plasma Science

      巻: 40 ページ: 2073-2078

    • DOI

      10.1109/TPS.2012.2203613

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface modification of DLC film due to oxygen plasma exposure, observed by IR absorption spectroscopy in multiple-internal-reflection geometry2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, Y. Takaki, Y. Takami, Y. Matuda, and H. Fujiyama
    • 雑誌名

      IEEE Transactions of Plasma Science

      巻: 40 ページ: 275-2761

    • DOI

      10.1109/TPS.2012.2208766

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマが誘起する表面反応の解析~気相プラズマから液中プラズマ~2012

    • 著者名/発表者名
      篠原正典,松田良信,藤山 寛
    • 雑誌名

      化学工業

      巻: 63 ページ: 942-946

  • [学会発表] アモルファス炭素膜と軽元素プラズマとの表面反応の赤外分光解析2012

    • 著者名/発表者名
      高木 雄也,高見 佳生,篠原 正典,松田 良信,藤山 寛
    • 学会等名
      表面科学会全国大会
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      20121120-20121122
  • [学会発表] エチレンを原料としたプラズマ化学気相堆積の反応計測2012

    • 著者名/発表者名
      高木雄也、高見佳生、篠原正典、松田良信、藤山 寛
    • 学会等名
      表面科学会全国大会
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      20121120-20121122
  • [学会発表] Plasma exposure effects on the behavior of hydrogen on amorphous carbon film2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Takaki, S. Yagi, Y. Takami, T. Tsumura, M. Shinohara, Y. Matsuda, Hiroshi Fujiyama
    • 学会等名
      Asia Pscific Conference Plasma Science and Technology 2012
    • 発表場所
      Kyoto-Japan
    • 年月日
      20121002-20121005
  • [学会発表] エチレンプラズマを用いた炭素膜形成過程の赤外分光計測2012

    • 著者名/発表者名
      高木雄也、八木翔平、高見佳生、津村高成、篠原正典、松田良信、藤山 寛
    • 学会等名
      九州薄膜表面研究会
    • 発表場所
      佐賀
    • 年月日
      20120609-20120609
  • [学会発表] Infrared Spectroscopic Study on Effects of Substrate Temperatures on Oxidation of Amorphous Carbon Films2011

    • 著者名/発表者名
      Y. Takaki, K. Hara, Y. Takami, M. Shinohara, Y. Matsuda, and H. Fujiyama
    • 学会等名
      Plasma Conference
    • 発表場所
      Kanazawa-Japan
    • 年月日
      20111122-20111125
  • [学会発表] In-situ infrared spectroscopy of oxidation process of amorphous carbon film, depending on substrate temperatures2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, Y. Takaki, K. Hara, Y. Takami, Y. Matsuda and H. Fujiyama,
    • 学会等名
      International Symposium of American Vacuum Society
    • 発表場所
      Nashville-USA
    • 年月日
      20111030-20111104
  • [学会発表] In-situ Monitoring of Plasma-induced Reactions with Infrared Spectroscopy2011

    • 著者名/発表者名
      Masanori Shinohara
    • 学会等名
      3rd International Workshop on Plasma Scientech for All Something
    • 発表場所
      Beijin-China
    • 年月日
      20111007-20111009
    • 招待講演
  • [学会発表] In-situ Infrared Spectroscopy of Plasma Induced Surface Reactions2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, K. Hara, Y. Takami, Y. Takaki, A. Fukae, K. Amano, Y. Matsuda, and H. Fujiyama
    • 学会等名
      Asian-European International Conference of Plasma Surface Engineering
    • 発表場所
      Dalian-China
    • 年月日
      20110920-20110922
    • 招待講演
  • [学会発表] プラズマが誘起する表面反応の赤外分光解析2011

    • 著者名/発表者名
      篠原正典,原幸治郎,高見佳生,高木雄也,深江陽大,天野勝裕,松田良信,藤山 寛
    • 学会等名
      電気学会プラズマ研究会 2011年8月7-9日
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      20110807-20110809
  • [学会発表] Substrate Temperature Effects on Behavior of Surface Hydrogen during Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shinohara, Y. Takaki, K. Hara, Y. Takami, Y. Matsuda and H. Fujiyama
    • 学会等名
      Symposium of Plasma Science for Materials
    • 発表場所
      Osaka-Japan
    • 年月日
      20110719-20110720
  • [産業財産権] ダイヤモンド様薄膜 長崎大学,(株)トーヨーエイテック2012

    • 発明者名
      篠原正典,仲谷達行,他
    • 権利者名
      長崎大学,(株)トーヨーエイテック
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特許第5092623
    • 出願年月日
      2012-03-07
    • 取得年月日
      2012-09-24

URL: 

公開日: 2014-07-24  

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