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2010 年度 自己評価報告書

プラズマプロセスの制御によるアモルファス炭素膜の揺らぎのない成膜プロセスの創成

研究課題

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研究課題/領域番号 20684027
研究種目

若手研究(A)

配分区分補助金
研究分野 プラズマ科学
研究機関長崎大学

研究代表者

篠原 正典  長崎大学, 生産科学研究科, 助教 (80346931)

研究期間 (年度) 2008 – 2012
キーワード反応性プラズマ / プロセス診断 / プラズマ-固体表面相互作用 / プラズマプロセス制御 / アモルファス炭素膜
研究概要

(1)ダイヤモンドライクカーボン(DLC)に代表されるアモルファス炭素膜は、一般に、プラズマプロセスで形成され、すでに機械部品のコーティングなど産業面で盛んに応用されている。しかし、実際にはプラズマプロセスを制御できず、製品にはばらつきが発生し、実用化が進まないものさえある。この原因として、これまでプラズマプロセスの物理・化学的側面を十分に明らかにされてこなかったことが挙げられる。そこで、「プラズマプロセスによるアモルファス炭素膜の成長メカニズムを明らかにした上で、時々刻々変化する反応性プラズマプロセスを制御する方法を世界に先駆けて提示する」ことが目的である。
(2)プラズマ中でも表面およびその近傍での反応が計測可能な多重内部反射型赤外吸収分光法を備えた実験装置を構築する。この装置には、気相診断もできるように、発光分光などの気相診断もできるようにする。
(3)プラズマ中およびプラズマ-固体表面の相互作用について分光法を用いて計測する。
(4)膜質を様々などを用いて解析し、プラズマ条件との関係を調べる。

  • 研究成果

    (11件)

すべて 2011 2010 2009 2008

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (5件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Infrared Spectroscopic Study on Hydrogen Plasma Induced Surface Reaction2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      Proceedings of TENCON 2010

      ページ: 1948-1950

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma Investigated with Infrared Spectroscopy2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      Trans.of MRS-Japan vol.35

      ページ: 563-566

    • 査読あり
  • [雑誌論文] アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析2010

    • 著者名/発表者名
      篠原正典, 他8名(1番目)
    • 雑誌名

      表面科学 Vol.31

      ページ: 400-404

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      Thin Solid Films Vol.518

      ページ: 3497-3501

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Substrate temperature effects on amorphous carbon film growth, investigated by infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry2009

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara, 他7名(1番目)
    • 雑誌名

      J.Vac.Sci.and Technol.A Vol.27

      ページ: 813-817

    • 査読あり
  • [学会発表] プラズマプロセスの赤外分光解析2011

    • 著者名/発表者名
      篠原正典
    • 学会等名
      「原子分子光の素過程とプラズマ分光の研究フロンティア」「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会
    • 発表場所
      岐阜県核融合科学研究所(招待講演)
    • 年月日
      2011-02-04
  • [学会発表] Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Paris-France
    • 年月日
      2010-10-06
  • [学会発表] Investigation of amorphous carbon film deposition process2010

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      1st International Workshop on Plasma Scientech for All Something
    • 発表場所
      Beijin-China(招待講演)
    • 年月日
      2010-05-15
  • [学会発表] Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases2009

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      22nd Symposium on Plasma Science for Materials
    • 発表場所
      東京大学山上会館
    • 年月日
      2009-06-16
  • [学会発表] Investigation of growth mechanism of diamond-like carbon film2008

    • 著者名/発表者名
      M.Shinohara
    • 学会等名
      55^<th> International symposium of American Vacuum society
    • 発表場所
      Boston-USA
    • 年月日
      2008-10-21
  • [産業財産権] 親水性炭素質膜の製造方法及び製造装置2009

    • 発明者名
      中谷達之、新田祐樹、篠原正典、藤山寛
    • 権利者名
      長崎大学、トーヨーエイテック(株)
    • 産業財産権番号
      特許.特願2009-115707
    • 出願年月日
      2009-05-12

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公開日: 2012-03-09   更新日: 2016-04-21  

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