研究課題
若手研究(B)
次世代高速電子デバイス材料や宇宙用高効率III-V族太陽電池のボトムセルとして注目されているゲルマニウム(Ge)について、引き上げ(CZ)法による結晶成長における転位や析出物、ボイドを始めとするgrown-in欠陥の形成挙動について検討した。直径1インチのGe単結晶を成長し、結晶中の欠陥の評価、解析を行った。その結果、従来法では難しかった、ボイド観察に必須な無転位Ge単結晶の成長に成功し、その成長技術を新規に提案した。また、Bの平衡偏析係数が6.2であること、Asを10^<19>cm^<-3>以上の高濃度で添加した際のGeAs析出機構についても明らかにした。
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Thin Solid Films 518
ページ: 2409-2412
Journal of Crystal Growth 311
ページ: 4615-4618
ページ: 59-61
http://www.tohoku.ac.jp/japanese/2009/09/press20090908.html