| 研究概要 |
AlとHfの同時電析により金属Ni上にHfを含むNiアルミナイド層の形成を試み, この層で被覆されたNiの耐サイクル酸化性を調べた. 得られた結果は以下のとおりである.
(1) NaCl-KCIに3.5mol%のALF_3と3.5mol%のHFf_4を添加した浴でAlとHfの同時電析を試みたが, AlとHfはほとんど電析されず, 電析層は観察されなかった. これに対して, 浴中へのHfF4の添加量を0.05mol%まで減少してAlとHfの同時電析を行うと, 基板Ni側からNi_2Al_3, NiAl_3の順に構成される電析層が生成し, 表面層のNiAl_3中にのみAl_3Hf粒子が均一に生成していた.
(2) NaCl-KClに3.5mol%のAIF3と0.05 mol%のHfF_4を添加した溶融塩中ではHfとAlの同時電析を行った試料は, 1423Kのサイクル酸化試験において, ほとんど質量変化を示さず, 極めて高い耐サイクル酸化性を示した.
(3) きわめて高い耐サイクル酸化性を示した, 浴中へのHfF_4の添加量を0.05mol%として同時電析した試料を1423Kで100サイクル酸化すると, 内層をAl_2O_3, 内層をHfO_2とする均一なスケールが生成した. 内層のHfO_2は楔状に下地金属に入り込んでおり, 下地との密着性の高いスケール形態となった.
|
