研究課題
近年、様々な生体材料に自己細胞および増殖・分化因子を組み合わせたティッシュエンジニアリングが開発され発展しつつある。なかでも、人工多能性幹細胞(iPS細胞)を代表とする胚性幹細胞(ES細胞)にかわる多分化能を有する細胞の開発、研究が行われている。本年はティッシュエンジニアリング材料に組み合わせるため、自己由来の細胞として大きな可能性を有すると考えるヒト智粛粛胚由来間葉系幹細胞についてのさらなる検討を行った。智歯歯胚は8歳から12歳までの矯正学的理由により抜去された埋伏智歯を使用し、患者には実験に供することの同意を得ている。幹細胞マーカーとされるSTRO-1陽性細胞に対し、磁石抗体を応用したDynabeads[○!R]を用い、分離回収した。抜去したヒト智歯歯胚は酵素下で細胞単位まで分離し幹細胞の回収を行った。その中に占める間葉系幹細胞の割合は6%であったことは以前に報告しているが、さらに培養を継続培養し、タンパク量の変化とALP活性の推移について観察を行った。その結果歯胚由来の細胞は培養経過においてALP活性及びタンパク量測定で高い値を示すことを確認した。以上より、歯根膜組織を再構築することを目的としティッシュエンジニアリングに用いる自己由来細胞のソースとしてヒト智歯由来の間葉系幹細胞が有用であることが示唆され、今後、スキャフォルドとの親和性等さらに検討を行うことが必要と考えられた。
すべて 2010
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Interface Oral Health Science (未定, 印刷中)
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