漢方薬による舌苔及び揮発性硫化物産生量の変化

2009 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 20791636
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 社会系歯学
• 研究機関: 新潟大学
• 研究代表者: 濃野 要 新潟大学, 医歯学系, 助教 (80422608)
• 研究期間 (年度): 2008 – 2009
• キーワード: 予防歯科学

研究概要

口臭の原因となる揮発性硫黄化合物は主に舌苔(舌の上にある白色~淡黄色の苔状のもの)から産生される。つまり舌苔を減らすことは口臭を予防するうえで重要である。本研究では漢方薬の服用による口臭と舌苔の変化および口臭減少に関連する唾液流量の変化について測定を行った。結果としては対象者各々では8週間の服用後に揮発性硫黄化合物と舌苔は減少し唾液流量は増加したが、統計的な有意差は認められなかった。