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本研究は独自材料である「液体Si」を研究対象とし、電子線（EB）照射で進行する「液体Si→固体Si」変換の実証とその原理解明を目的とした。そして固体Si(ウェハ)や気体Si(シランガス)に立脚した従来のSi工学の延長では困難とされた「非加熱・非真空・ナノサイズ・3次元印刷」のSi製膜技術を創出することを目指した。本年度は当初想定をしていなかった、申請者の転職に伴う研究設備の解体と再構築が必要となり、実質的な研究進展を図ることは難しかった。特に輸送困難な液体Siは、一旦全ての材料を失活処理し、移動後に設備が立ち上がってから改めて合成を試みる必要があった。EB照射装置および第一原理計算機の環境も再構築中であり、現在は研究環境の準備を進めている。
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