研究課題/領域番号 |
20H02645
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分30020:光工学および光量子科学関連
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研究機関 | 北海道大学 |
研究代表者 |
森田 隆二 北海道大学, 工学研究院, 教授 (30222350)
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研究分担者 |
戸田 泰則 北海道大学, 工学研究院, 教授 (00313106)
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研究期間 (年度) |
2020-04-01 – 2023-03-31
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キーワード | 光渦 / 超短光パルス / チャープ / 超高速ビーム制御 / 擬粒子励起 |
研究成果の概要 |
超短光渦パルスの重ね合わせによる,超高速回転光格子(光渦ペア)生成技術を基本ツールとして用い,さらにこれを拡張することにより極限時間域における超高速ビームパターン変調技術を確立させる。これを目的とし,未解決・未到達の以下の項目:(1) 高強度超高速回転リング状光格子(光渦ペア)の生成のための高出力光源の開発,(2) 様々な光渦空間モードの重ね合わせによる自在ビームパターン変調法の確立,(3) 高強度超高速ビームパターン変調による,物質系における擬粒子励起とそのコヒーレント伝播制御・増強・新奇現象探索ための光格子のポインティングベクトル解析を行った。
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自由記述の分野 |
超高速光学,光量子科学
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研究成果の学術的意義や社会的意義 |
超高速変調ビームパターン発生光学系の高出力化・高効率化を行い,応用に耐えうる超高速ビームパターン変調光学系を開発した後,様々なチャープ光渦パルスを重ね合わせることにより,自在性を有した軸対称ビームパターン変調を行う手法を確立させた。この手法により最も高速でビームパターン変調を行うことができている。また,複雑な重ね合わせ光渦パルスに関し,ポインティングベクトルを解析的に求め,パルス時間包絡線内平均をとることにより,合成光渦ビームの軌道角運動量の振る舞いの観点から,擬粒子励起などの応用の際の留意点を明らかにした。
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