| 研究課題/領域番号 |
20H02682
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| 研究機関 | 愛知工業大学 |
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研究代表者 |
一野 祐亮 愛知工業大学, 工学部, 教授 (90377812)
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| 研究分担者 |
吉田 隆 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (20314049)
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| 研究期間 (年度) |
2020-04-01 – 2024-03-31
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| キーワード | YbBCO薄膜 / フレキシブル / 水溶性基板 / エピタキシャル成長 |
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| 研究実績の概要 |
昨年度は500度の温度でNaCl基板上にAuエピタキシャル薄膜を作製することができた。しかしながらYBCOのエピタキシャル成長には800度以上が必要であり、Au/NaCl上にYBCOエピ膜を作製することができなかった。
そこで本年度は、YBCOよりも比較的低い温度でエピタキシャル成長するYbBCO超伝導体のエピタキシャル成長膜の作製を行った。YbBCO薄膜はパルスレーザー蒸着（PLD）法を基板温度400～700度の条件下で作製した。その結果、YbBCOの十分な品質のエピタキシャル膜は得られなかった。
次に、YbBCOよりも比較的低い温度でも作製報告例のあるMgB2超伝導膜をAu/NaCl基板上に基板温度を室温で作製し、その後400度で後熱処理を加えることで結晶化を試みた。しかしながら、MgB2の結晶化は見られず、電気抵抗の温度依存性の測定においても超伝導転移は見られなかった。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
3: やや遅れている
理由
水溶性のNaCl基板上にAuバッファ層のエピタキシャル成長は実現できたが、YbBCOやMgB2超伝導薄膜のエピタキシャル成長には至っていない。
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| 今後の研究の推進方策 |
NaCl基板は水溶性はあるが耐熱温度が低いために十分な品質のエピタキシャル超伝導膜が得られていない。そこで、従来よく用いられている酸化物単結晶基板上に水溶性の中間層（例えばSr-Al-O、Ba-Al-Oなど）を作製することを試みる。さらにその上へのYbBCOエピ膜の成長を試みる。
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