原子スケール局所磁場直接観察手法の開発と磁性材料界面研究への応用

2020 年度 研究概要(採択時)

• 研究課題/領域番号: 20H05659
• 研究種目: 基盤研究(S)
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 大区分D
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 柴田 直哉 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (10376501)
• 研究分担者: 関 岳人 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (90848558)
• 研究期間 (年度): 2020-08-31 – 2025-03-31