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2021 年度 実施状況報告書

ボンドエンジニアリングによるオクテットAB型二元系原子層物質のマテリアルデザイン

研究課題

研究課題/領域番号 20K05324
研究機関三重大学

研究代表者

秋山 亨  三重大学, 工学研究科, 准教授 (40362363)

研究期間 (年度) 2020-04-01 – 2023-03-31
キーワード原子層物質 / グラフェン / vdWヘテロ構造 / 第一原理計算 / 二層ハニカム構造
研究実績の概要

AB型二元系材料を含むヘテロ構造の形成可能性に関する検討を前年度に引き続き行い、Bi2Te3とAB型二元系材料を含むファンデルワールス(vdW)ヘテロ構造の形成可能性に関する検討も行った。AB型二元系材料として16種類の材料を対象として二層ハニカム(DLHC)構造を採用し、ファンデルワールス相互作用を考慮した第一原理計算により凝集エネルギー計算を実行した。材料によっては、バルク状態での安定構造(閃亜鉛鉱構造あるいはウルツ鉱構造)よりもDLHC構造が安定となることを見出した。DLHC構造の安定化にはイオン性が重要な役割を果たしているものの、イオン性のみでは説明不可能な材料もあり支配因子の抽出にはダイポール相互作用の解析等のより詳細な検討が必要である。また、AB型二元系材料の新物質探索として、ヤヌス型原子層(表面と裏面で構成元素が異なる原子層)の形成可能性を検討した。GaPAs系(GaPとGaAsの組み合わせ)においてヤヌス型原子層が形成可能であることを見出した。これは、GaPとGaAsの格子不整合度が比較的小さいことに起因しており、格子不整合度が大きなGaNAs系においては混晶となるほうが安定となることが解った。さらに、機械学習を用いた材料探索を実施するために準備として、これまでの計算で得ているInAlN系超格子のバンドギャップに対して決定木分析による予測を試みた。外挿が困難で著しく再現性の低いデータ範囲があるものの内挿する場合では再現性良くバンドギャップ予測が可能であることを見出した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

当初予定していたAB型二元系材料vdWヘテロ構造に対する検討に加えて、新規物質としてヤヌス型原子層に対しても成果が得られたことから、研究は順調に進捗しているものと判断される。高効率の材料探索実現に向けた機械学習を用いた材料探索の適用が今後の課題である。

今後の研究の推進方策

今後は本年度の検討により形成可能と考えられたヤヌス型原子層に注目し、その原子層物質およびvdWヘテロ構造に対する形成可能性の検討および物性探索を行う。これらの系における凝集エネルギー計算およびフォノン計算によりその安定性を評価し、さらにトポロジカル絶縁体および励起子絶縁体等の形成可能性を電子状態を解析する。また、vdWヘテロ構造に対してはこれまでは主にIII-V族化合物半導体とグラフェン(あるいはヘキサゴナルBN)の組み合わせを中心に取り扱ってきたが、II-VI族やIV-IV族に対してもvdWヘテロ構造の形成が考えられる。これらの系における凝集エネルギー計算およびフォノン計算により、vdWヘテロ構造の形成可能性を検討する。

次年度使用額が生じた理由

コロナウィルス感染防止対策により国内および海外出張をすることが不可能になり、当初予定していた旅費の執行が不可能になった。これらの旅費は翌年度に執行する予定であるが、感染状況によっては出張を取りやめて計算設備およびオンライン会議設備の拡充に対して執行することも検討している。

  • 研究成果

    (23件)

すべて 2022 2021

すべて 雑誌論文 (7件) (うち査読あり 7件) 学会発表 (16件) (うち国際学会 6件、 招待講演 1件)

  • [雑誌論文] An ab initio-based approach for the formation of pyramidal inversion domain boundaries in highly Mg-doped GaN2022

    • 著者名/発表者名
      Niki Katsuhide、Akiyama Toru、Ito Tomonori
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 61 ページ: 055503~055503

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac5dab

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Ab initio study for orientation dependence of nitrogen incorporation at 4H-SiC/SiO2 interfaces2022

    • 著者名/発表者名
      Akiyama Toru、Shimizu Tsunashi、Ito Tomonori、Kageshima Hiroyuki、Chokawa Kenta、Shiraishi Kenji
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 61 ページ: SH1002~SH1002

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac5a96

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structures and stability of GaN/Ga2O3 interfaces: a first-principles study2022

    • 著者名/発表者名
      Hishiki Fumiaki、Akiyama Toru、Kawamura Takahiro、ITO Tomonori
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 61 ページ: -

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac5e90

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of surface structural change on adsorption behavior on InAs wetting layer surface grown on GaAs(001) substrate2021

    • 著者名/発表者名
      Akiyama Toru、Yonemoto Kazuhiro、Hishiki Fumiaki、Ito Tomonori
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 570 ページ: 126233~126233

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2021.126233

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of step edges on the adsorption behavior on vicinal AlN(0001) surface during metal-organic vapor phase epitaxy: An ab initio study2021

    • 著者名/発表者名
      Akiyama Toru、Ohka Takumi、Nagai Katsuya、Ito Tomonori
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 571 ページ: 126244~126244

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2021.126244

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effective approach for calculating individual energy of step edges on polar AlN(0001) and GaN(0001) surfaces2021

    • 著者名/発表者名
      Akiyama Toru、Nakatani Atsutaka、Shimizu Tsunashi、Ohka Takumi、Ito Tomonori
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 60 ページ: 080701~080701

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ac1128

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Ab initio-based approach for the oxidation mechanisms at SiO2/4H-SiC interface: Interplay of dry and wet oxidants during interfacial reaction2021

    • 著者名/発表者名
      Shimizu Tsunashi、Akiyama Toru、Ito Tomonori、Kageshima Hiroyuki、Uematsu Masashi、Shiraishi Kenji
    • 雑誌名

      Physical Review Materials

      巻: 5 ページ: 114601~114601

    • DOI

      10.1103/PhysRevMaterials.5.114601

    • 査読あり
  • [学会発表] Ab initio-based approach for reaction process at 4H-SiC/SiO2 interfaces2022

    • 著者名/発表者名
      Toru Akiyama, T. Shimizu, Tomonori Ito, H. Kageshima, K. Shiraishi
    • 学会等名
      2nd International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] 窒化物半導体におけるピラミッド型インバージョンドメイン形成の理論解析2022

    • 著者名/発表者名
      仁木克英, 秋山亨, 伊藤智徳
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] GaN(0001)基板上に形成するGa2O3膜の構造安定性の理論解析: 膜厚依存性の検討2022

    • 著者名/発表者名
      日紫喜文昭, 秋山亨, 河村貴宏, 伊藤智徳
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] (AlxGa1-x)2O3混晶の構造安定性および混和性に関する理論的検討2022

    • 著者名/発表者名
      藤田楓理, 秋山亨, 河村貴宏, 伊藤智徳
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] 第一原理計算に基づくAlN(0001)表面上のGaN層の構造安定性評価2022

    • 著者名/発表者名
      足道悠, 秋山亨, 伊藤智徳
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] 4H-SiC/SiO2界面での窒素酸化物およびアンモニアの反応機構の理論的検討2022

    • 著者名/発表者名
      秋山亨, 清水紀志, 伊藤智徳, 影嶋博之, 白石賢二
    • 学会等名
      第69回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] 4H-SiC/SiO2界面での窒素酸化物およびアンモニアの反応機構の理論的検討2022

    • 著者名/発表者名
      秋山亨, 清水紀志, 伊藤智徳, 影島博之, 白石賢二
    • 学会等名
      電子デバイス界面テクノロジー研究会
  • [学会発表] First-principles calculation of optical properties of III-V nitride semiconductors2022

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Kawamura, Kouhei Basaki, Satoshi Ohata, Toru Akiyama, and Yoshihiro Kangawa
    • 学会等名
      The 2nd International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation
    • 国際学会
  • [学会発表] Structures and stability of GaN/Ga2O3 interfaces: a first-principles Study2021

    • 著者名/発表者名
      Fumiaki Hishiki, Toru Akiyama, Takahiro Kawamura, and Tomonori Ito
    • 学会等名
      2021 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 国際学会
  • [学会発表] An ab initio-based approach for the formation of pyramidal inversion domain boundaries in highly Mg-doped GaN2021

    • 著者名/発表者名
      Katsuhide Niki, Toru Akiyama, and Tomonori Ito
    • 学会等名
      2021 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 国際学会
  • [学会発表] Direct approach for calculating individual energy of step edges on polar AlN(0001) and GaN(0001) surfaces using density functional calculations2021

    • 著者名/発表者名
      Toru Akiyama, Atsutaka Nakatani, Tsunashi Shimizu, Takumi Ohka, Tomonori Ito
    • 学会等名
      International Conference on Materials and Systems for Sustainability
    • 国際学会
  • [学会発表] Ab initio Study for Orientation Dependence of Nitrogen Incorporation at 4H-SiC/SiO2 Interfaces2021

    • 著者名/発表者名
      Toru Akiyama, Tsunashi Shimizu, Tomonori Ito, Hiroyuki Kageshima, Kenta Chokawa, Kenji Shiraishi
    • 学会等名
      2021 International Workshop on “Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices: Science and Technology
    • 国際学会
  • [学会発表] 第一原理計算によるGaN/β-Ga2O3界面構造の理論解析2021

    • 著者名/発表者名
      日紫喜文昭, 秋山亨, 河村貴宏, 伊藤智徳
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [学会発表] 界面エネルギー計算に基づく高濃度Mg添加GaNにおけるピラミッド型インバージョンドメイン形成の評価2021

    • 著者名/発表者名
      仁木克英, 秋山亨, 伊藤智徳
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [学会発表] 第一原理計算によるAlN(0001)およびGaN(0001)表面でのステップ形成エネルギーの評価2021

    • 著者名/発表者名
      秋山亨, 中谷淳嵩, 清水紀志, 相可拓巳, 伊藤智徳
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
  • [学会発表] 4H-SiC/SiO2界面での窒素取り込みの面方位依存性に関する理論検討2021

    • 著者名/発表者名
      秋山亨, 清水紀志, 伊藤智徳, 影嶋博之, 白石賢二
    • 学会等名
      第82回応用物理学会秋季学術講演会

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公開日: 2022-12-28  

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