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アンチセンス核酸には通常ホスホロチオエート（PS）修飾が施される。特に、RNase H依存型アンチセンス核酸のギャップ部分はRNase Hによる認識部位となるため天然ヌクレオシドが用いられており、PS修飾は必要不可欠となっている。本研究では、アンチセンス核酸のギャップ部分の脱PS化を目指し、RNase Hによる認識を維持した修飾核酸の開発を行った。4'位にカルボン酸等価体やメチルチオ基をもつ修飾核酸ならびに1',4'-架橋型核酸を導入したオリゴ核酸を合成し、RNase H活性などを調べた。結果、部分的な脱PS化につながり得る修飾核酸を見出すことができた。
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