| 研究実績の概要 |
以前に合成した(7S)-レゾルビンT4の合成方法をもとに(7R)-レゾルビンT4の合成を検討した。
市販のピメリン酸を無水酢酸中で閉環させた後に加溶媒分解、酸塩化物への変換、トリイソプロピルシリルアセチレンの付加によりイノンとした。これに対して野依不斉水素化反応（(R,R)-不斉触媒）に付したところ、高エナンチオ選択的に(7R)-プロパルギルアルコールが得られた。トリイソプロピルシリル基の脱保護、Lindlar還元により、(7R)-アリルアルコールに導いた。アリルアルコールにアクロレインジエチルアセタールとの交差メタセシス後、続く水酸基のt-ブチルジメチルシリル基による保護、アセタールの脱保護により、目的とするα,β-不飽和アルデヒドをワンポットで調製することに成功した。
(7S)-レゾルビンT4の合成方法をもとに、青葉アルコールを臭素化した後、ホスホニウム塩とした。続いて、市販のd-リンゴ酸を還元、アセタール保護、酸化によりアルデヒドに変換し、Hornor-Wadsworth-Emmons反応によりα,β-不飽和エステルとして、脱保護、水酸基の保護を行った。その後、還元、酸化によりα,β-不飽和アルデヒドとした。ホスホニウム塩とα,β-不飽和アルデヒドとのWittig反応を行ったところ、高収率、Z選択的にスキップジエンを得た。得られたトリエンのt-ブチルジメチルシリル基を選択的に脱保護し、ブロモ化した後、トリフェニルホスフィンを作用させることで、目的とするホスホニウム塩を合成した。
合成したホスホニウム塩をn-BuLiで処理した後、DMPU存在下で、α,β-不飽和アルデヒドとWittig反応を行ったところ、Z選択的にレゾルビンT4保護体が得られた。最後に、t-ブチルジメチルシリル基を脱保護、加水分解することで(7R)-レゾルビンT4の合成を達成した。
|
