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ゲノムDNAの複製は主に複製型DNAポリメラーゼが担うが、DNA上に生成された損傷により阻害される。これに対し、細胞はDNA損傷トレランスというDNA損傷を残したまま複製を再開させる機構を備えている。DNA損傷トレランスは現在のところ、損傷乗り越え型DNAポリメラーゼによる損傷乗り越え合成（translesion synthesis: TLS）または姉妹染色体の相同配列を利用した反応（homology-dependent repair: HDR）により行われると考えられている。本研究では、紫外線損傷であるシクロブタン型ピリミジン二量体（cyclobutane pyrimidine dimer: CPD）のTLS活性を欠損している色素性乾皮症バリアント群（XP-V）細胞の抽出液を用いてHDRを検出する系を構築しようとしている。CPDを含むDNA を放射性同位体によりラベルした。これを基質として、XP-V細胞抽出液や基質のDNA配列と相同配列をもった姉妹染色体のモデルDNAなどを用いてHDR反応の一部を再現できた。しかし、この条件では損傷を含まないDNAを基質として用いても同様の結果となってしまった。そこで、損傷が存在するときにのみHDR反応が起こるように、姉妹染色体のモデルDNAの長さや形状を変えるなどの条件検討を行った。現在のところ、損傷特異的な反応が検出できるような条件は見つかっていない。
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