研究課題/領域番号 |
20K12497
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分80040:量子ビーム科学関連
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研究機関 | 大阪公立大学 (2022-2023) 大阪府立大学 (2020-2021) |
研究代表者 |
松井 利之 大阪公立大学, 国際基幹教育機構, 教授 (20219372)
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研究分担者 |
堀 史説 大阪公立大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (20275291)
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研究期間 (年度) |
2020-04-01 – 2024-03-31
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キーワード | 照射誘起強磁性 / クラスターイオンビーム / イオン注入 / 磁性ナノ粒子 |
研究成果の概要 |
各種高エネルギーイオンビーム照射を利用した3次元局所傾斜磁気構造構築技術の開発と新たな動作原理を持つ磁気交換結合素子への展開に関する検討を行なった.加えて設計する3次元磁気構造のキャップ層等の機能を担う,複合ナノクラスター磁性材料に対する物質開発を行った. その結果,磁性薄膜媒体の極表面領域の磁気プロファイルを深さ方向に制御する手法として,クラスターイオンビーム照射が効果的であること,並びに極表面の磁性層を安定化させる手法として,シリカ層に磁性イオンを注入することなどを見出した.これらの手法とマイクロイオンビーム技術との複合化により,3次元局所傾斜磁気構造構築技術構築の可能性が示唆された.
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自由記述の分野 |
磁気物性,高エネルギー粒子線照射
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研究成果の学術的意義や社会的意義 |
物質表面に3次元磁気構造を人工的に構築する技術の開発とそれを磁気交換結合素子へ展開することにより,従前には無い磁気機能をもつ新奇なデバイスの開発が可能になると推測される. 本研究では,高エネルギーマイクロイオンビームとクラスターイオンビーム照射を利用した3次元局所傾斜磁気構造構築技術の開発を目指し,その磁気構造の構築,評価,物質開発に取り組んだ.結果として,深さ方向へポストプロセスで磁気構造を作りこむことが可能な,高エネルギークラスターイオンビーム照射の活用が,効果的であることを見出した.また,その構造評価技術として深さ方向XMCD評価とそのプロファイル解析技術に関して多様な知見を得た.
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