高圧下におけるシリカメルト中のXeの振る舞いについて、新たな知見を得た。Xeは、低圧領域ではSiO4四面体が構成するネットワークの空隙間を移動しているが、6 GPa以上の圧力条件では特定の空隙中に閉じ込められる。Xeと他の原子との間に強い結合はなく、移動度の変化はネットワーク構造の変化(高密度化)による空隙サイズの低下が原因と考えられる。その他、シリカメルトを含む非晶質物質の相転移カイネティクスモデルを提案し、相転移過程の不均質を観察するためのX線顕微鏡および大規模シミュレーション法を開発した。
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