|
ペロブスカイト太陽電池において、その膜質も重要であるがその表面・界面のパッシベーションも高性能化のみならず高耐久化において重要である。後処理によるパッシベーションは非常に有用であるがプロセス数・時間が増える点が難点である。
そこで着目したのがフッ素系物質の低い表面自由エネルギーであり、ペロブスカイト前駆体にフッ系高分子やフルオロリン酸を添加すると、成膜中にペロブスカイト薄膜の表面数～十数nmに自己偏析することがX線光電子分光の深さ方向分析から判明し、このフッ素系物質がパッシベーション層となり、後処理を行うことなく最高で光安定化出力20.4%が得られた。
|
