本研究課題では、歪んだペロブスカイト型構造の化合物ではバンド構造の折り返しをはじめとする光特性に有利な電子構造が実現しやすいことに着目し、ペロブスカイト型構造を有する非酸化物半導体材料を用いた高効率な光デバイス創製を目指し、研究を推進した。高効率なデバイスを実現するためには、高品質なエピタキシャル薄膜の作製が必要不可欠となる。そこで、光学特性に優れる硫化物半導体SrHfS3と強誘電半導体の候補物質である窒化物LaWN3を対象とし、エピタキシャル薄膜の作製を試みた。パルスレーザー堆積法やマグネトロンスパッタ法を用いることで、両者のエピタキシャル薄膜成長にはじめて成功した。
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