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これまで相反すると思われていた、「真空環境下で行う薄膜技術」と「10 GPa以上の超高圧技術」を組み合わせ、新物質合成することを発想した。それにより、超高圧下でのみ安定な物質を大気圧下に取り出し、新材料研究を切り拓くことを狙った。
本研究では下記の3項目に取り組んだ。(1)mmオーダーサイズの大型薄膜試料を破損することなく超高圧印加するための技術開発。(2)基板単結晶の表面トポタクティック反応による高圧相α-AlO(OH)の配向結晶成長。(3)減圧過程で非晶質化するとされ、大気圧下回収できなかったペロブスカイト型CaSiO3の大気圧下回収。
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