研究課題
基盤研究(A)
将来の高密度磁気メモリ対応のメモリセル材料を開発することを目的とし、単結晶Mn_xGa_<1-x>(0. 5≦x≦0. 75)合金薄膜について、メモリセルとして必要な磁気特性(飽和磁化M_s、垂直磁気異方性Kuおよびギルバードダンピング定数.)を調べた。M_sはxの増加に伴って600emu/ccから200emu/ccに直線的に減少した。これに対してK_uの減少はわずかで、15Merg/ccから10Merg/ccの変化である。ダンピング定数. はMn_<1. 54> Ga(Mn_<2. 12> Ga)の組成で0. 08 (0. 015)であった。これ等の特性はメモリ材料として要求される特性を満足している、更に、Mn-Ga 合金膜を電極としたトンネル接合を作製し、10 Kと300 Kで磁気抵抗効果(TMR)を調べた。Mn-Ga 電極とトンネル障壁(MgO)の間に僅かのFe(Co)を挿入することにより、室温で60(40)%のTMR 比を得た。この値については更に向上させる必要がある。
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