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2011 年度 実績報告書

CNT透明電極を用いた有機ELデバイスの作成評価と有機薄膜形成の動的計測

研究課題

研究課題/領域番号 21246118
研究機関東京大学

研究代表者

山口 由岐夫  東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (20332570)

キーワード有機EL / 結晶析出 / 臨界過飽和度 / 乾燥速度 / 蛍光
研究概要

「研究目的」低分子有機半導体薄膜を塗布により作製し、蒸着法の性能と比較して同等以上を目指す。
「研究成果」塗布・乾燥過程における低分子有機薄膜の形成ダイナミクスを明らかにした。
(1)塗布薄膜形成の動的計測: In-situ計測としてPL(蛍光)のスペクトル変化を計測した。同時に、重量変化や薄膜の表面温度変化を測定した。ポイントは溶液状態から有機分子が析出し、最終的に固相薄膜に動的変化する状態を知ることにある。これにより、プロセス特性としての乾燥速度に依存した過飽和度と析出した固相の物性の相関を知ることである。その結果、乾燥速度が速いと結晶が析出する臨界過飽和度は高くなる。しかも、溶解度の低い有機分子ほど臨界過飽和度は高い。
(2)塗布薄膜の物性測定: X線回折スペクトル、示差熱分析スペクトル、TG-DTA分析とmass同時分析などから膜の結晶性と残存溶媒の量を知ることができた。その結果、乾燥速度が速いほど結晶子が小さくアモルファスに近づくことや、残存溶媒量が少なくなることがわかった。残存溶媒量が少なくなるとd-space(結晶内の面間隔)は小さくなる。その結果、光学バンドギャップ(吸光度の波長依存性から求める)は小さくなる。つまり、d-spaceが小さくなり、バンドギャップが小さくなる。以上、(1)の結果と重ねると、乾燥速度は臨界過飽和度を決定し、析出する結晶の大きさや内部構造を決め、塗布薄膜の物性に大きな影響を与えることがわかった。
(3)蒸着膜との比較: 有機蒸着膜の構造は基板温度と蒸着速度で決まる。基板特性の影響は蒸着初期の核発生に現れる。基板温度が結晶化温度よりも低いときはアモルファスであり、高いときは結晶化する。塗布膜と比較するには、それぞれの製膜の最適化を行わないと簡単に比較はできない。我々は、デバイスとしての界面ホール注入性と移動度を測定した。塗布膜は蒸着膜に比較して同等であった。

  • 研究成果

    (14件)

すべて 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (9件) 図書 (1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Size control of phase-separated liquid crystal droplets in a polymer matrix based on the phase diagram2012

    • 著者名/発表者名
      S. Ohta, S. Inasawa, and Y. Yamaguchi
    • 雑誌名

      J. Polym. Sci. Part B : Polym. Phys.

      巻: 50(12) ページ: 863-869

    • DOI

      DOI:10.1002/polb.23071

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Size- and surface chemistry-dependent intracellular localization of luminescent silicon quantum dot aggregates2012

    • 著者名/発表者名
      S.Ohta, P.Shen, S.Inasawa, Y.Yamaguchi
    • 雑誌名

      J.Mater.Chem.

      巻: (In press)

    • DOI

      DOI:10.1039/C2JM31112G

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Self-organized pattern formation of cracks perpendicular to the drying direction of a colloidal suspension2012

    • 著者名/発表者名
      Susumu Inasawa, Yukio Yamaguchi
    • 雑誌名

      Soft Matter

      巻: 8 ページ: 2416-2422

    • DOI

      DOI:10.1039/C2SM01786J

    • 査読あり
  • [学会発表] 塗布乾燥過程における低分子有機半導体の構造形成ダイナミクス2012

    • 著者名/発表者名
      奥圭介,稲澤晋,辻佳子,山口由岐夫
    • 学会等名
      化学工学会第77年会
    • 発表場所
      工学院大学(東京都)
    • 年月日
      2012-03-17
  • [学会発表] 霧化成膜によるSnO2:F透明導電膜の構造と物性2012

    • 著者名/発表者名
      堤直也、原千鶴、辻佳子、山口由岐夫
    • 学会等名
      化学工学会第77年会
    • 発表場所
      工学院大学(東京都)
    • 年月日
      2012-03-17
  • [学会発表] ウェットプロセスで作製した有機EL用半導体薄膜の構造と物性2011

    • 著者名/発表者名
      岩室徳人,辻佳子,奥圭介,山口由岐夫
    • 学会等名
      化学工学会第43回秋季大会
    • 発表場所
      名古屋工業大学(愛知県)
    • 年月日
      2011-09-15
  • [学会発表] 低分子有機半導体薄膜の構造と物性2011

    • 著者名/発表者名
      辻佳子,山口由岐夫
    • 学会等名
      化学工学会第43回秋季大会
    • 発表場所
      名古屋工業大学(愛知県)
    • 年月日
      2011-09-15
  • [学会発表] 誘起される粒子系構造と粘度の関係2011

    • 著者名/発表者名
      小池修,藤田昌大,山口由岐夫
    • 学会等名
      化学工学会第43回秋季大会
    • 発表場所
      名古屋工業大学(愛知県)
    • 年月日
      2011-09-15
  • [学会発表] 乾燥に伴うコロイド粒子膜の形成・変形と気液界面の挙動2011

    • 著者名/発表者名
      稲澤晋,平野祥久,山口由岐夫
    • 学会等名
      化学工学会第43回秋季大会
    • 発表場所
      名古屋工業大学(愛知県)
    • 年月日
      2011-09-15
  • [学会発表] 塗布乾燥における構造形成と性能2011

    • 著者名/発表者名
      山口由岐夫
    • 学会等名
      化学工学会第43回秋季大会
    • 発表場所
      名古屋工業大学(愛知県)(招待講演)
    • 年月日
      2011-09-15
  • [学会発表] Simulation Model of Drying Colloidal Suspension on Substrate2011

    • 著者名/発表者名
      Masahiro Fujita, Osamu Koike, Yukio Yamaguchi
    • 学会等名
      The 3^<rd> Asian Coating Workshop
    • 発表場所
      北九州市
    • 年月日
      2011-07-04
  • [学会発表] Control of anisotropic refractive indices of colloidal particulate films formed by drying of colloidal suspension2011

    • 著者名/発表者名
      Kohei Yamaguchi, Yoshihisa Hirano, Susumu Inasawa, Yukio Yamaguchi
    • 学会等名
      The 3^<rd> Asian Coating Workshop
    • 発表場所
      北九州市
    • 年月日
      2011-07-04
  • [図書] 改訂七版 化学工学便覧2011

    • 著者名/発表者名
      共著者:山口由岐夫
    • 総ページ数
      6/1106
    • 出版者
      丸善出版
  • [備考]

    • URL

      http://ymfs.chem.t.u-tokyo.ac.jp/index-j.html

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公開日: 2013-06-26  

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