| 研究課題/領域番号 |
21350047
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
原田 誠 東京工業大学, 理工学研究科, 助教 (60313326)
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| 研究分担者 |
瀧上 隆智 九州大学, 理学(系)研究科(研究院), 教授 (40271100)
永谷 広久 金沢大学, 物質化学系, 准教授 (90346297)
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| 研究期間 (年度) |
2009-04-01 – 2013-03-31
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| キーワード | 液液界面 / XAFS / 全反射 / 電位規制界面 / 反射率測定 |
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| 研究概要 |
液液界面は二次元である界面の上下を性質の異なる溶媒で挟まれるという特殊な場であり、種々の反応場としての機能や溶媒抽出に重要な役割を果たしている。しかし特殊な場であるため、界面吸着物質などのin situでの構造解析は困難であった。よって、本研究は、高輝度で精密なＸ線照射制御できるSPring-8や高エネルギー加速器研究機構のシンクロトロン放射光を利用して、界面、特に液液界面に焦点を当てた研究を行ってきた。これまでに本グループでは液液界面全反射蛍光XAFS測定および測定装置の開発・改良、また液液界面でのＸ線反射率測定装置の開発・改良を行い、液液界面に吸着した物質の構造や電子状態について研究を進めてきた。XAFSでは電位規制された液液界面に対する物質の吸着挙動についての解析を試みた。水-オクタノンの液液界面に陰イオン性界面活性剤を展開し、液液界面での電位を調整し臭化物イオンがどのように吸着するのかXAFS測定を行った。また、ヘプタン－水界面にフルオロドデカンとフルオロドデカノールの混合物およびイコサノールとフルオロドデカンの混合物を展開し、Ｘ線反射率測定を行った。界面での電子密度から、前者の混合物の系では、液液界面に高濃度のフルオロドデカンとフルオロドデカノールが凝集していることがわかった。一方、後者の混合物の系ではフルオロドデカンはイコサノールとは界面に共存せず、両者の混合物の界面吸着挙動に明確な違いを見いだした。
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| 現在までの達成度 (区分) |
理由
24年度が最終年度であるため、記入しない。
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| 今後の研究の推進方策 |
24年度が最終年度であるため、記入しない。
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