研究課題
基盤研究(B)
InGaAs格子緩和層内に埋め込んだInAs量子ドットを含むGaAs/ AlAs多層膜共振器構造をGaAs基板上に分子線エピタキシー法により作製し、その非線形光学応答特性を明らかにした。ErドープによりInAs量子ドットの超高速キャリア緩和が実現できることを明らかにし、1ピコ秒程度の応答時間の共振器構造において量子ドットを用いることにより2桁以上の大きな非線形光学応答が得られることを検証した。
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