研究課題
基盤研究(B)
スルファミン酸ニッケル浴を用いて、電着条件を制御することによりサブミクロンから10nmまでの所定の結晶粒径を有する均質膜の創製が可能となった。陰極に研磨したステンレス板を使用することにより自立膜を得ることができた。結晶粒径のナノ結晶への微細化は疲労き裂発生に対しては強度向上をもたらすのに対して、き裂進展に対しては逆に低下をもたらす。粒径が約15nm以下の領域での疲労機構には粒界の影響が大きい。
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Proceedings of Advanced Technology of Experimental Mechanics, ATEM' 11, Kobe
巻: CD-ROM ページ: OS04F033
Procedia Engineering
巻: Vol.10 ページ: 542-547
材料
巻: 第59卷、第4号 ページ: 403-404