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2011 年度 実績報告書

デジタルナノパターニング技術開拓のための水酸化フラーレン分子加工原理に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 21360064
研究機関大阪大学

研究代表者

高谷 裕浩  大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (70243178)

研究分担者 林 照剛  大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (00334011)
道畑 正岐  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教 (70588855)
キーワード水酸化フラーレン / 加工機能性超微粒子 / ナノデジタルパターニング / 材料除去過程 / 分子加工原理 / 表面増強ラマン散乱法 / 加工現象計測・解析 / 超短パルスレーザー
研究概要

本研究は,フラーレン1分子を加工機能性超微粒子として利用することにより,加工量をデジタル的に制御可能なナノデジタルパターニング技術の実現をめざし,フラーレン単分子による加工メカニズムの理解と,それによって得られた加工特性に基づく加工制御技術の確立を目的とする.平成23年度は,特に銅と水酸化フラーレンの化学反応過程をin-situで解析する新たな計測評価手法によって,加工量のデジタル制御性の可能性を左右するフラーレン単分子による材料除去メカニズムをより詳細に理解するため,以下のようなin-situラマン分光分析装置の開発と基礎現象解析を行った.
1.前年度までに構築・改良したSERS計測基本光学系に基づき,伝搬型表面プラズモンと局在型表面プラズモン共鳴によるラマン散乱光を区別して測定可能なin-situラマン分光分析装置を開発した.さらに,銅と水酸化フラーレンの化学的相互作用による表面微細構造の変化と,それに伴うラマン散乱特性の変化からフラーレン単分子加工現象の化学反応過程を解析可能とする計測手法を構築し,ラマンスペクトル分布の時系列変化を調べる基礎実験を遂行した.
2.銅-水酸化フラーレンの化学反応過程において,伝搬型表面プラズモンによって励起されたラマンスペクトルにCu-0伸縮振動のピークが確認された.これにより水酸化フラーレンは銅表面にCu-0-Cの結合で吸着し,Cu-fullerenol錯体による分子レベルの除去作用を担うことがわかった.その結果,フラーレン単分子加工現象の化学反応過程を制御することにより,フラーレン1分子を加工機能性超微粒子として利用するナノデジタルパターニングの加工制御が実現できる可能性を見いだした.

  • 研究成果

    (3件)

すべて 2012 2011

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (2件)

  • [雑誌論文] Chemical mechanical polishing of patterend copper wafer surface using water-soluble fullerenol slurry2011

    • 著者名/発表者名
      Yasuhiro Takaya, Hirotaka Kishida, Terutake Hayashi, Masaki Michihata
    • 雑誌名

      Annals of the CIRP

      巻: Vol.60 ページ: 567-570

    • 査読あり
  • [学会発表] 水酸化フラーレンを用いたCu-CMPにおける化学反応過程の解明(第1報)-in-situラマン分光分析装置の開発-2012

    • 著者名/発表者名
      鹿野和昌
    • 学会等名
      2012年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      首都大学東京南大沢キャンパス(東京都)
    • 年月日
      2012-03-15
  • [学会発表] In situ Raman analysis of chemical reaction for copper CMP using water-soluble fullerenol2011

    • 著者名/発表者名
      Kazumasa Kano
    • 学会等名
      ASPEN 2011 4th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • 発表場所
      Hong Kong (China)
    • 年月日
      2011-11-16

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公開日: 2013-06-26  

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