活性陽極援用フィルタードアーク蒸着源の開発と機能性アモルファス炭素膜の創製

2011 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 21360131
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 電力工学・電力変換・電気機器
• 研究機関: 豊橋技術科学大学
• 研究代表者: 滝川 浩史 豊橋技術科学大学, 大学院・工学研究科, 教授 (90226952)
• 連携研究者: 須田 善行 豊橋技術科学大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (70301942) ; 桶 真一郎 津山工業高等専門学校, 電子制御工学科, 講師 (20362329)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2011
• キーワード: 電気機器 / 真空アーク

研究概要

真空中のアーク放電プラズマを用いた機能性薄膜蒸着装置に関し,異種元素をドープする機能を備え,かつ高品質(超平坦,均一,異物フリー)な薄膜を形成可能な新規のフィルタードアーク蒸発システムを設計・開発し,装置機能を評価し,異種元素ドープ・機能性高密度アモルファス炭素膜(機能性DLC膜)を創製した。

研究成果

• [雑誌論文] Removal of diamond-like carbon film by oxygen-dominated plasma beam converted from filtered carbon-cathodic arc (2011)
  • 著者名/発表者名: H. Tanoue, M. Kamiya, Y. Suda, S. Oke, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, N. Tsuji, T. Ishikawa, H. Yasui
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 巻: Vol.50 ページ: 01AF12_01-01AF12_06
• [雑誌論文] 中真空動作磁気引き出し型ガスプラズマ銃の開発と基礎特性 (2011)
  • 著者名/発表者名: 柳田太一郎, 田上英人, 神谷雅男, 須田善行, 滝川浩史, 瀧真, 長谷川祐史, 石川剛史
  • 雑誌名: 電気学会論文誌A 巻: Vol.131, No.2 ページ: 139-144
• [雑誌論文] フィルタードアークプラズマビームの磁界制御によるドロップレットフリーDLC膜の形成 (2010)
  • 著者名/発表者名: 奥田浩史, 神谷雅男, 田上英人, 須田善行, 滝川浩史
  • 雑誌名: プラズマ応用科学 巻: Vol.18, No.2 ページ: 159-164
• [雑誌論文] Effect of gas introduction position on substrate etching by means of Ar-dominated graphite-cathodic-arc plasma beam in at-FAD (2010)
  • 著者名/発表者名: H. Tanoue, M. Kamiya, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, N. Tsuji, T. Ishikawa, H. Yasui, S. Temmei, H. Takahashi
  • 雑誌名: Thin Solid Films 巻: Vol.518, No.13 ページ: 3546-3550
• [雑誌論文] Argon-dominated plasma beam generated by filtered vacuum arc and its substrate etching (2009)
  • 著者名/発表者名: H. Tanoue, M. Kamiya, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, M. Kumagai, M. Kano, T. Ishikawa, H. Yasui
  • 雑誌名: Applied Surface Science 巻: 255 ページ: 7780-7785
• [雑誌論文] T-shape filtered arc deposition system with built-in electrostatic macro-particle trap for DLC film preparation (2009)
  • 著者名/発表者名: M. Kamiya, T. Yanagita, H. Tanoue, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, M. Taki, Y. Hasegawa, T. Ishikawa, H. Yasui
  • 雑誌名: Thin Solid Films 巻: Vol.518, No.5 ページ: 1498-1502
• [雑誌論文] フィルタードアーク蒸着で形成したダイヤモンドライクカーボン膜の光学特性 (2009)
  • 著者名/発表者名: 神谷雅男, 川口裕輔, 田上英人, 須田善行, 滝川浩史
  • 雑誌名: プラズマ応用科学 巻: Vol.17, No.2 ページ: 125-132
• [学会発表] 水素フリーダイヤモンドライクカーボン膜の半導体性評価 (2011)
  • 著者名/発表者名: 田上英人,柏木大幸,奥田浩史,角口公章,須田善行,滝川浩史,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,辻信広,石川剛史
  • 学会等名: 平成23年度電気関係学会東海支部連合大会
  • 発表場所: 三重大学,三重県
  • 年月日: 2011-09-26
• [学会発表] ダイヤモンドライクカーボン膜を作る・使う・評価する-成膜技術・応用領域・評価法 (2011)
  • 著者名/発表者名: 滝川浩史
  • 学会等名: KAST教育講座
  • 発表場所: かながわサイエンスパーク,神奈川県
  • 年月日: 2011-07-28
• [学会発表] フィルタードアークプラズマビームの回転スキャンおよび偏向制御 (2010)
  • 著者名/発表者名: 奥田浩史,柏木大幸,田上英人,神谷雅男,柳田太一郎,須田善行,滝川浩史,長谷川祐史,瀧真,辻信広,石川剛史,安井治之,金子智
  • 学会等名: 平成22年電気関係学会東海支部連合大会,I5-2
  • 発表場所: 中部大学,愛知県
  • 年月日: 2010-08-31
• [学会発表] フィルタードアークプラズマビームを用いた水素フリーDLC膜の生成 (2010)
  • 著者名/発表者名: 奥田浩史,田上英人,神谷雅男,柳田太一郎,内藤翔太,須田善行,滝川浩史,長谷川祐史,瀧真,辻信広,石川剛史,安井治之
  • 学会等名: 平成22年電気学会放電・静止器・開閉保護合同研究会
  • 発表場所: 東京都市大学,東京都
  • 年月日: 2010-06-28
• [学会発表] Super Hard DLC CoatingTechnology (2009)
  • 著者名/発表者名: 滝川浩史
  • 学会等名: World Tribology Congress2009
  • 発表場所: 国立京都国際会館,京都府
  • 年月日: 2009-09-08
• [学会発表] Effect ofgas introduction position on substrateetching using Ar plasma-beam inμT-FAD (2009)
  • 著者名/発表者名: H. Tanoue, M. Kamiya, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, N. Tsuji, T. Ishikawa, H. Yasui
  • 学会等名: SPSM-22
  • 発表場所: 東京大学,東京都
  • 年月日: 2009-06-15
• [備考] Web上で新聞報道等の情報も明記
  • URL: http://www.pes.ee.tut.ac.jp
• [産業財産権] プラズマ処理装置 (2011)
  • 発明者名: 滝川浩史,岩崎康浩,辻信弘,長谷川祐史
  • 権利者名: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • 産業財産権番号: 特許、特許第4883602号
  • 取得年月日: 2011-12-16
• [産業財産権] プラズマ表面処理方法及びプラズマ処理装置 (2011)
  • 発明者名: 滝川浩史,辻信弘,長谷川祐史
  • 権利者名: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • 産業財産権番号: 特許、特許第4883601号
  • 取得年月日: 2011-12-16
• [産業財産権] DLC被覆工具 (2011)
  • 発明者名: 滝川浩史,長谷川祐史,瀧真
  • 権利者名: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • 産業財産権番号: 特許、特許第4780734号
  • 取得年月日: 2011-07-15
• [産業財産権] DLC被覆工具 (2009)
  • 発明者名: 滝川浩史,長谷川祐史,瀧真
  • 権利者名: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • 産業財産権番号: 特許、特許第4424555号
  • 取得年月日: 2009-12-18
• [産業財産権] プラズマ生成装置 (2009)
  • 発明者名: 滝川浩史,椎名祐一
  • 権利者名: 滝川浩史,株式会社フェローテック
  • 産業財産権番号: 特許、特許第4373252号
  • 取得年月日: 2009-09-11
• [産業財産権] プラズマ生成装置 (2009)
  • 発明者名: 滝川浩史,椎名祐一
  • 権利者名: 滝川浩史,株式会社フェローテック
  • 産業財産権番号: 特許、特許第4319556号
  • 取得年月日: 2009-06-05