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2009 年度 実績報告書

酸素透過膜を利用した二酸化炭素回生システムの開発

研究課題

研究課題/領域番号 21360335
研究機関東北大学

研究代表者

高村 仁  東北大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (30250715)

キーワード混同導電体 / 酸素透過特性 / ペロブスカイト型酸化物
研究概要

炭化水素の部分酸化反応は空気中からの酸素分離のみならず、適切な熱量を供給することで二酸化炭素の分解反応を駆動しうる。本研究では、この1)二酸化炭素回生に対応できる新規酸素透過膜材料の開発、2)薄膜型構造による酸素透過速度の向上、3)二酸化炭素回生システムの効率解析を目的としている。今年度は、耐還元性に優れる酸素透過膜の開発として、SrTi_<1-x>Fe_xO_<3-δ> (x=01~0.5)をほぼ単相の緻密膜として作製し、その相安定性と酸素透過速度が明らかにした。相安定性に関しては、酸素分圧が約10^<-17>atm以下の領域ではFe^<2+>への還元挙動が認められたが、XRDの結果からは相分解を示唆する変化は認められず、本系材料は耐還元性に優れた酸素透過膜材料と位置づけられた。酸素透過における表面交換反応律速を緩和するためには、Co触媒の塗布が有効であり、本研究で得られた最高の酸素透過速度は、SrTi_<0.6>Fe_<0.4>O_<3-δ>の6.69×10^<-8>mol・cm^<-2>・s^<-1> (975℃)であった。また、薄膜型酸素透過膜の作製に関しては、Pr_<0.7>Sr_<0.3>Fe_<0.8>Al_<0.2>O_<3-δ>なる酸素透過膜をYSZ基板上にパルスレーザー蒸着法により成膜し、その混合導電性について複素インピーダンス解析を実施した。この膜は、900℃においてArea Specific Resistanceが0.37Ω、その活性化エネルギーは1.6eVとなり、既報の混合導電性ペロブスカイト型酸化物と同等の特性を示した。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2010 2009

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (4件)

  • [雑誌論文] The oxygen permeation characteristics of Bi_<1-x>Sr_xFeO_3 mixed ionic and electronic conducting ceramics2010

    • 著者名/発表者名
      K.Brinkman, T.Iijima, H.Takamura
    • 雑誌名

      Solid State Ionics

      巻: 181 ページ: 53-58

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrode Properties of Pr_<0.7>Sr_<0.3>Fe_<0.8>Al_<0.2>O_<3-δ> Thin Film Prepared by Pulsed Laser Deposition2009

    • 著者名/発表者名
      H.Takahashi, H.Takamura
    • 雑誌名

      ECS Transactions, SOFC-XI

      巻: 25 ページ: 2675-2680

    • 査読あり
  • [学会発表] イオン・電子混合導電性酸化物の開発とエネルギー変換デバイスへの応用2010

    • 著者名/発表者名
      高村仁
    • 学会等名
      日本金属学会2010年春期(第146回)大会
    • 発表場所
      筑波(招待講演)
    • 年月日
      2010-03-29
  • [学会発表] アクセプター及びドナー添加されたPr-Sr-Fe基ペロブスカイト型酸化物の混合導電性と酸素透過特性2009

    • 著者名/発表者名
      中島有紀, 高村仁
    • 学会等名
      第35回固体イオニクス討論会
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      2009-12-09
  • [学会発表] Hydrogen production from hydrocarbons by using ceria-based MIEC composites2009

    • 著者名/発表者名
      H.Takamura
    • 学会等名
      Composites at Lake Louise
    • 発表場所
      レイクルイーズ,カナダ(招待講演)
    • 年月日
      2009-10-29
  • [学会発表] Electrode Properties of Pr_<0.7>Sr_<0.3>Fe_<0.8>Al_<0.2>O_<3-δ> Thin Film Prepared by Pulsed Laser Deoosition2009

    • 著者名/発表者名
      H.Takahashi, H.Takamura
    • 学会等名
      216^<th> The Electrochemical Society Meeting
    • 発表場所
      ウィーン,オーストリア
    • 年月日
      2009-10-06

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公開日: 2012-07-19  

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