研究課題
基盤研究(B)
イオン液体中でSi薄膜電析を行うことのできる新規なプロセスを確立し,その析出過程をEQCM, TEMやRamanを用いて解析した.その結果,析出したSi薄膜はアモルファスであることや,薄膜内へのイオン液体の巻き込み現象を確認した.更にUVナノインプリントリソグラフィー法により形成した150nm径の孔を規則配列形成したパターン基板をテンプレートに用いて電析を行い,均一なSiナノドットアレイの形成にも成功した.
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