研究課題
基盤研究(C)
低速高電離イオン(HCI)は固体表面に電子励起による高原状・層状的膨らみ(ヒロック)を作る。我々はその形成機構を、『電子励起過程に続く局在フォノンの協力現象的な緩和』と予測した。その物質依存性の解明に、原子の集積状態により電子状態が大きく変わる炭素系固体に注目し、ヒロック形成のもっとも重要な機動力が、フェムト秒で働く光学フォノンとピコ秒で働く音響フォノンに因るとする「2フォノンモデル」を確立した。
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