研究課題/領域番号 |
21510120
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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研究機関 | 甲南大学 |
研究代表者 |
梅津 郁朗 甲南大学, 理工学部, 教授 (30203582)
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研究分担者 |
吉田 岳人 阿南工業高等専門学校, 教授 (20370033)
杉村 陽 甲南大学, 理工学部, 教授 (30278791)
坂本 直道 いわき明星大学, 科学技術学部, 助教 (70275650)
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研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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キーワード | レーザーアブレーション / ナノ結晶 / 非平衡プロセス / レーザープロセッシング / 結晶成長 / プルーム |
研究概要 |
ガス中でのパルスレーザアブレーション法を用いて、SiとGeのターゲットに対して2種類のレーザを照射し、ターゲットから放出したプルームを正面衝突させた。対向プルームの影響は雰囲気ガス圧によって変化し、300Pa程度で最も相互作用が大きかった。それに対して低ガス圧では分子粒的に振る舞い、高圧では閉じ込めの効果で影響が少なく相互作用は顕著ではなかった。堆積物は、ナノ粒子であり、このナノ粒子はSiとGeの混晶であるが局所的にはSiとGeのナノ粒子の結合体が形成されている可能性がある。
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