研究課題
基盤研究(C)
本研究の目的は磁気混合流体(MCF)を磁場制御することにより,レンズ用の小径金型をナノメーターレベルの形状精度とサブナノメーターレベルの平滑な表面にする研磨法を開発することである.本研究では,回転する小径金型に対してパルス磁場を印加する研磨工具を2次元搖動運動させることで可能なことを明らかにした.平面に対して,パルス磁場は広い範囲で平坦化,平滑化される.小径凹面に対しては,パルス磁場は形状精度を保持した鏡面研磨になることを明らかにした.
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International Journal of Applied Electromagnetics and Mechanics
巻: (掲載決定)(印刷中)
APPLIED ELECTROMAGNETICS AND MECHANICS
ページ: 549-550