| 研究課題/領域番号 |
21560339
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 金沢工業大学 |
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研究代表者 |
遠藤 和弘 金沢工業大学, ものづくり研究所, 教授 (50356606)
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| 研究分担者 |
立木 昌 筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 研究員 (20028111)
有沢 俊一 (独)物質・材料研究機構, 超伝導物性ユニット, 主幹研究員 (00354340)
内田 貴司 防衛大学校, 電気情報学群電気電子工学科, 教授 (50531802)
立木 隆 防衛大学校, 電気情報学群電気電子工学科, 准教授 (60531796)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2011
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| キーワード | ビスマス系超伝導酸化物 / Bi-2223 / 薄膜 / MOCVD / テラヘルツ素子 / 固有ジョセフソン接合 |
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| 研究概要 |
テラヘルツ波はガン細胞の検出やX線に替わる非破壊検査法として、「安全で安心な」デバイスへの応用が期待されている。固有ジョセフソン接合によるテラヘルツ発振の理論を提唱し、最近、Bi-2212超伝導体のバルク結晶で実証されたが、その発振強度は実用には小さい。この「低強度問題」を解決するため、薄膜を用いた新しいデバイス構造を提案し、そのアイデアを実証するため、高品質な非c軸配向のBi-2223薄膜を有機金属化学気相成長法により作製した。
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