| 研究課題/領域番号 |
21560348
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| 研究機関 | 宇都宮大学 |
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研究代表者 |
石井 清 宇都宮大学, 工学研究科, 教授 (30134258)
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| 研究分担者 |
佐久間 洋志 宇都宮大学, 工学研究科, 助教 (40375522)
齋藤 和史 宇都宮大学, 工学研究科, 助教 (70251080)
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| キーワード | 磁気記録媒体 / 垂直磁気記録 / スパッタ膜 / ガスフロースパッタ法 / FePt |
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| 研究概要 |
本研究では、本学で考案されたガスフロースパッタ法と呼ぶCVD領域(100Pa)の高圧力スパッタ法を用いることにより、次世代磁気記録媒体として考えられているナノパーティクル媒体薄膜に適用できるL1_0相のFe-Ptナノ粒子構造薄膜を作製することを目指している。具体的な課題として、ナノ粒子構造の薄膜を成長させる条件を確立すること、また、Fe-Pt合金においてなるべく低温においてL1_0構造に規則化を起こさせることである。また、薄膜の構造解析と磁気特性の関連性を明らかにすることが重要である。21年度22年度においては、基板加熱を行う場合、成長温度を高めるとL1_0への規則化が進むが、膜構造は特異な変化を示し、先ず微細化が起き、さらに高温にすると結晶粒子の成長が進み粒子が大きくなることを見出し、その薄膜成長機構について新しい知見を得た。その成長条件牽利用することにより、23年度においては、成長温度が300℃程度において、10nm程度の微粒子膜構造が再現性良く形成できることを明確にした。しかもそれらの薄膜においてL1_0への規則化も高く(規則度が0.6以上)、また保磁力も7kOe以上の記録媒体と3して十分大きな値を示すことを明らかにした。一方、成長温度など成膜条件を変化させて、より微細な粒子からなる粒子構造膜を得る条件を検討したが、高い規則度と微細化を同時に進めることには限界があることが分かった。しかしながら今回確立された成膜時の基板加熱により薄膜の微細化が進む現象はこの手法に独特なものであり、ナノパーティクル媒体構造の構築に極めて有用なものであることを示すことができ、今後下地の工夫などにより実用に供することが可能な磁気録媒体の試作研究が必要と考える。
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