電気化学析出膜における水素誘起低温固相反応の解明とその応用

2011 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 21560692
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 金属物性
• 研究機関: 兵庫県立大学
• 研究代表者: 松田 均 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 教授 (60118015)
• 研究分担者: 八重 真治 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (00239716) ; 福室 直樹 兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 助教 (10347528)
• 連携研究者: 深井 有 中央大学, 名誉教授 (80055136)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2011
• キーワード: 拡散 / 相変態 / 状態図

研究概要

本研究において、電気化学析出膜における室温再結晶現象のメカニズムを明らかにした。すなわち、これらの膜の析出過程で導入された水素に起因する超多量空孔によって金属原子の拡散が促進される。昇温脱離分析のプロファイルから、空孔-水素クラスターに対応するピークが認められた。また、膜中水素量に応じて結晶粒径は増大した。これらの結果から、上記の室温再結晶現象は、水素導入によって発生した超多量空孔に起因することが明らかとなった。

研究成果

• [雑誌論文] Influence of hydrogen on room temperature recrystallisation of electrodeposited Cu films : thermal desorption spectroscopy (2011)
  • 著者名/発表者名: N. Fukumuro, T. Adachi, S. Yae, H. Matsuda, Y. Fukai
  • 雑誌名: Trans. Inst. Met. Finish. 巻: Vol.89, No.4 ページ: 198-201
  • DOI: DOI:10.1179/174591911X13082997023873
  • 査読あり
• [雑誌論文] Rh電析膜中の水素誘起超多量空孔の影響 (2011)
  • 著者名/発表者名: 福室直樹, 成田真嗣, 八重真治, 松田均
  • 雑誌名: 表面技術 巻: Vol.62, No.6 ページ: 317-318
  • DOI: DOI:10.4139/sfj.62.317
  • 査読あり
• [雑誌論文] Thermal Desorption Spectroscopic Study of Hydrogen in Electrodeposited Ni-P Films (2011)
  • 著者名/発表者名: T. Takemoto, N. Fukumuro. S. Yae, H. Matsuda
  • 雑誌名: ECS Transactions 巻: Vol.33, No.21 ページ: 11-15
  • URL: http://dx.doi.org/10.1149/1.3557566
• [雑誌論文] Microstructural Investigation of Modulated Structure in Electrolessly Deposited Co-P Films (2010)
  • 著者名/発表者名: N. Fukumuro, J. Nishiyama, S. Yae, H. Matsuda
  • 雑誌名: Trans. Mater. Res. Soc. Jpn. 巻: Vol.35, No.1 ページ: 55-58
  • URL: http://mrs-j.org/archive/httpdoc/format/cont35-1.pdf
  • 査読あり
• [雑誌論文] Effect of Absorbed Hydrogen on Microstructure of Electrodeposited Cobalt (2010)
  • 著者名/発表者名: A. Nakayama, N. Fukumuro, S. Yae, H. Matsuda
  • 雑誌名: ECS Trans 巻: Vol.25, No.34 ページ: 79-85
  • URL: http://dx.doi.org/10.1149/1.3335494
  • 査読あり
• [学会発表] (2012)
  • 著者名/発表者名: 福室直樹, 安達貴良, 八重真治, 松田均, 深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第150回講演大会
  • 年月日: 20120000
• [学会発表] (2011)
  • 著者名/発表者名: 久永尚哉, 福室直樹, 八重真治, 松田均
  • 学会等名: 第13回関西表面技術フォーラム
  • 年月日: 20110000
• [学会発表] CuおよびNi電析膜中の水素と固体拡散 (2011)
  • 著者名/発表者名: 安達貴良, 福室直樹, 八重真治, 松田均
  • 学会等名: 第13回関西表面技術フォーラム
  • 年月日: 20110000
• [学会発表] Au電析膜中の水素 (2011)
  • 著者名/発表者名: 仲大輔, 福室直樹, 八重真治, 松田均
  • 学会等名: 第13回関西表面技術フォーラム
  • 年月日: 20110000
• [学会発表] めっき膜中の水素とその効果(II) (2011)
  • 著者名/発表者名: 福室直樹, 八重真治, 松田均, 深井有
  • 学会等名: ナノプレーティング
  • 年月日: 20110000
• [学会発表] めっき膜の微細構造に及ぼす膜中水素の影響～電解Rhめっき～ (2011)
  • 著者名/発表者名: 成田真嗣, 福室直樹, 八重真治, 松田均, 深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第148回講演大会講演概要
  • 年月日: 20110000
• [学会発表] アモルファス合金めっき膜中の水素の存在状態-Ni-PおよびNi-Bめっき- (2011)
  • 著者名/発表者名: 福室直樹, 竹本達哉, 八重真治, 松田均, 深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第148回講演大会講演概要
  • 年月日: 20110000
• [学会発表] めっき膜中の水素とその効果(II) (2011)
  • 著者名/発表者名: 松田均, 八重真治, 福室直樹, 深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第148回講演大会講演概要
  • 年月日: 20110000
• [学会発表] 電析Co-Ni合金膜の構造と水素～硫酸浴と塩化物浴の比較～ (2010)
  • 著者名/発表者名: 山田一輝, 福室直樹, 八重真治, 松田均
  • 学会等名: 第12回関西表面技術フォーラム
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] Thermal Desorption Spectroscopic Study of Hydrogen in Electrodeposited Ni-P Films (2010)
  • 著者名/発表者名: T. Takemoto, N. Fukumuro, S. Yae, and H. Matsuda
  • 学会等名: 218th ECS Meeting
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] 水素の熱脱離分析による銅電析膜の室温再結晶の研究 (2010)
  • 著者名/発表者名: 安達貴良, 福室直樹, 八重真治, 松田均, 深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第147回講演大会講演概要
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] 日本金属学会第147回講演大会講演概要 (2010)
  • 著者名/発表者名: 竹本達哉, 福室直樹, 八重真治, 松田均, 深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第147回講演大会講演概要
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] Fe-Ni合金電析膜の構造と水素の存在状態 (2010)
  • 著者名/発表者名: 高野太志, 福室直樹, 八重真治, 松田均深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第147回講演大会講演概要
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] 電解Niめっきにおける水素の挙動に及ぼす素地の影響 (2010)
  • 著者名/発表者名: 佐野祐起子, 福室直樹, 八重真治, 松田均, 深井有
  • 学会等名: 日本金属学会第147回講演大会講演概要
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] Ni-P合金膜の構造と水素の存在状態 (2009)
  • 著者名/発表者名: 竹本達哉, 福室直樹, 八重真治, 松田均
  • 学会等名: 第11回関西表面技術フォーラム
  • 年月日: 20090000
• [学会発表] 電析Ni膜の内部応力に対する添加剤の影響 (2009)
  • 著者名/発表者名: 堂貴善, 福室直樹, 八重真治, 松田均, 格内敏
  • 学会等名: 第11回関西表面技術フォーラム
  • 年月日: 20090000
• [学会発表] めっき膜中の水素の挙動に及ぼす素地の影響 (2009)
  • 著者名/発表者名: 佐野祐起子, 福室直樹, 八重真治, 松田均
  • 学会等名: 第11回関西表面技術フォーラム
  • 年月日: 20090000
• [学会発表] 電解Niめっきプロセスにおける水素の移動 (2009)
  • 著者名/発表者名: 田中裕三, 福室直樹, 八重真治, 松田均
  • 学会等名: 第3回関西電気化学研究会
  • 年月日: 20090000
• [学会発表] Effect of Absorbed Hydrogen on Microstructure of Electrodeposited Cobalt (2009)
  • 著者名/発表者名: A. Nakayama, N. Fukumuro, S. Yae, H. Matsuda
  • 学会等名: 216th ECS Meeting
  • 年月日: 20090000
• [学会発表] Influence of hydrogen on room temperature recrystallisation of electrodeposited Cu films : thermal desorption spectroscopy
  • 著者名/発表者名: N. Fukumuro, T. Adachi, S. Yae, H. Matsuda, Y. Fukai
  • 学会等名: 7th International Conference on Diffusion in Solids and Liquids