研究課題
基盤研究(C)
スピン注入磁化反転素子の開発においては、サブミクロン寸法素子を作製するための作製技術開発を行った。電極材料には、強相関酸化物であるLa_0.6Sr_0.4MnO_3を、パルスレーザー蒸着法にて、SrTiO_3基板上に成膜した薄膜(50nm)を用いた。電子ビーム直接描画法でレジストパターンを形成、その後、Arイオンエッチングでメサ構造への加工を行ない、200nm×160nm程度のパターンを得ることに成功した。また、本研究のパターン作製技術の一部を、電気二重層キャパシターを強相関酸化物に適用したモットトランジスタ開発に適用し、世界で初めて、電界制御にて室温でのモット転移に成功した。
すべて 2011 2010
すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (4件) 産業財産権 (2件)
ADVANCED MATERIALS
巻: 23巻 ページ: 5822-5287
DOI:10.1002/adma.201102968
Applied Physics Letters
巻: 97巻 ページ: 142110-1-142110-3
DOI:10.1063/1.3496458