研究概要 |
イオン照射機構(プラスチックの表面改質やDLC膜の合成にも用いられているPBII & D機構と基本構造は同じ)を取り付けた多元素同時スパッタリングシステムを開発した.本装置で得たDLC膜の硬さ及び基板追従性は,成膜条件によって広範囲に調整できた.また本装置を用いることで,基板温度が353Kであっても結晶化したTiNi合金薄膜を得ることができた.ポリイミド上にTiNi合金薄膜を付与した素子は,通電による加熱及びその停止による冷却で良好な二方向形状回復動作を示した.これらの結果によって,マイクロアクチュエータ素子の応用展開が期待できると考える.
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