研究課題
基盤研究(C)
ナノ~ミリレベルのマルチスケールひずみ計測手法に関して、電子線リソーグラフィ描画技術を基盤にした計測用パターンを開発した。マルチスケールで観察可能な高分解能電界放射型電子顕微鏡とマイクロ負荷デバイスとを組み合わせたシステムを構築し、電子線モアレ法と画像相関法の両者を取り入れた変形評価手法を提案した。複雑な階層構造を持つバイオ材料や複合材料に適用し、数十ナノ厚さの有機層界面やスケールの異なる界面層の局所不均一変形を実験的に捉えることに成功した。
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