励起エネルギー可変光電子分光による鉄シリサイド極表面構造の解明

2011 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 21560765
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 材料加工・処理
• 研究機関: 独立行政法人日本原子力研究開発機構
• 研究代表者: 江坂 文孝 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 原子力基礎工学研究部門, 研究主幹 (40354865)
• 研究分担者: 山本 博之 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (30354822)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2011
• キーワード: 構造解析 / 化学状態

研究概要

放射光から得られるX線を利用した励起エネルギー可変の光電子分光により、鉄シリサイド薄膜、単結晶、ホモエピタキシャル成長膜の表面の深さ方向分析を行った。その結果、各試料の表面には、自然酸化膜として約1nmのシリコン酸化膜が生成することが示された。また、成膜時の基板温度の違いによりホモエピタキシャル成長膜の化学状態に違いが見られ、均質な膜を得るためには、成膜時の温度の制御が重要であることが示された。

研究成果

• [雑誌論文] Surface characterization of homoepitaxialυ-FeSi_2 film onυ-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and absorption spectroscopy (2011)
  • 著者名/発表者名: F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
  • 雑誌名: Phys. Proc 巻: 11 ページ: 150-153
  • DOI: DOI:10.1016/j.phpro.2011.01.043
  • 査読あり
• [雑誌論文] Spectroscopic characterization ofυ-FeSi_2 single crystals and homoepitaxialυ-FeSi_2 films by XPS and XAS (2011)
  • 著者名/発表者名: F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
  • 雑誌名: Appl. Surf. Sci 巻: 257 ページ: 2950-2954
  • DOI: DOI:10.1016/j.apsusc.2010.10.097
  • 査読あり
• [雑誌論文] X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopic study onυ-FeSi_2 thin films fabricated by ion beam sputter deposition (2010)
  • 著者名/発表者名: F. Esaka, H. Yamamoto, 他7名
  • 雑誌名: Appl. Surf. Sci 巻: 256 ページ: 3155-3159
  • DOI: DOI:10.1016/j/apsusc.2009.11.090
  • 査読あり
• [学会発表] 放射光を用いた材料表面の化学組成分析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 江坂
  • 学会等名: 第18回シリサイド系半導体研究会
  • 発表場所: 山形
  • 年月日: 2011-09-03
• [学会発表] Nondestructive depth profiling of FeSi2 single crystals by synchrotron radiation excited XPS and XAS (2010)
  • 著者名/発表者名: F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
  • 学会等名: International Vacuum Congress 18
  • 発表場所: Beijing, China
  • 年月日: 2010-08-25
• [学会発表] Surface characterization of homoepitaxialυ-FeSi_2 film onυ-FeSi_2(111) substrate by X-ray photoelectron and X-ray absorption spectroscopy (2010)
  • 著者名/発表者名: F. Esaka, H. Yamamoto, 他6名
  • 学会等名: APAC-Silicide2010
  • 発表場所: Ibaraki
  • 年月日: 2010-07-24
• [学会発表] β-FeSi_2単結晶表面状態のXPS及びXASによる分析 (2009)
  • 著者名/発表者名: 江坂、山本, 他6名
  • 学会等名: 第29回表面科学学術講演会
  • 発表場所: 東京
  • 年月日: 2009-10-27