| 研究課題/領域番号 |
21604016
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
量子ビーム
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| 研究機関 | 独立行政法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
平田 浩一 独立行政法人産業技術総合研究所, 計測標準研究部門, 主任研究員 (80357855)
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| 研究分担者 |
斎藤 勇一 日本原子力研究開発機構, 高崎量子応用研究所, 研究主幹 (40360424)
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| 連携研究者 |
鳴海 一雅 日本原子力研究開発機構, 高崎量子応用研究所, 研究主幹 (90354927)
千葉 敦也 日本原子力研究開発機構, 高崎量子応用研究所, 研究副主幹 (40370431)
山田 圭介 日本原子力研究開発機構, 高崎量子応用研究所, 研究員 (10414567)
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| 研究期間 (年度) |
2009 – 2012
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| キーワード | クラスターイオン / 二次イオン |
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| 研究概要 |
本研究では、高速クラスター及び単原子イオンを有機高分子薄膜試料へ照射した際に生成する2次イオンを、飛行時間型質量分析と2次イオン電流計測により測定し、その強度を比較した。高速クラスターイオン照射では、試料への高い電子的エネルギー付与に加えて、クラスターイオン照射による特異的な2次イオン生成プロセス等のため、高い2次イオン強度が得られることが示唆される結果を得た。また、帯電抑制効果による負2次イオンの安定的な放出、高速クラスターの照射特性を考慮した2次イオン計数システムの構築等、高速クラスター1次イオンの高感度2次イオン質量分析への応用にも寄与する成果も得られた。
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