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本研究の目標は、パルス圧力付加オリフィス噴射法に粒子の結晶性を制御するための新機構を組み込み、粒径の揃った高結晶性シリコン粒子を製造することにある。そのためには、基礎的課題として、パルス圧力付加オリフィス噴射法によって噴射されたシリコン粒子の落下中凝固メカニズムを理解し、それに基づいて下記目標を達成し得る製造装置の開発を行った。
また、本研究においては、球状シリコンのうちで最も需要が高い球状太陽電池への応用を想定し、粒径:200～500μm.粒径許容範囲:粒径精度±15μm.結晶性:内包する結晶粒が5個以下の粒子が粒子全体の90%以上を目標として研究を進めた。
また、単結晶化のための方針について検討した。
本年度では装置設計に必要な基礎データの収集・分析を行い、それに基づきターボ真空システムを組み込み、来年度にその装置による高結晶粒子の作製・評価を行った。
得られた基礎データを基に落下している融滴に直接In-Situに超音波振動を投射・印荷することが可能な治具を自作し、また、ターボ真空システムを組み込んだ噴射部治具についても、本方法に適した仕様製作した。
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