凝縮相における熱化電子の大きさの研究

2011 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 21656238
• 研究種目: 挑戦的萌芽研究
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 原子力学
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 古澤 孝弘 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (20251374)
• 研究分担者: 山本 洋揮 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2011
• キーワード: 放射線 / X線 / 粒子線 / 原子・分子物理 / 原子力エネルギー / 計算物理

研究概要

高分子フィルム中における熱化電子の拡がりを明らかにするとともに、電離放射線入射直後の熱化電子と電子捕捉剤の反応の定式化を行い、イオン化による二次電子放出から熱化過程および熱化から電子が局在化するまでの間の電子の反応のシミュレーションを可能とした。

研究成果

• [雑誌論文] Geminate Charge Recombination in Liquid Alkane with Concentrated CCl4 : Effects of CCl4 Radical Anion and Narrowing of Initial Distribution of Cl (2011)
  • 著者名/発表者名: A. Saeki, N. Yamamoto, Y. Yoshida, and T. Kozawa
  • 雑誌名: J. Phys. Chem. A 巻: 115巻 ページ: 10166-10173
  • DOI: DOI:10.1021/jp205989r
  • 査読あり
• [雑誌論文] Determination of Optimum Thermalization Distance Based on Trade-off Relationship between Resolution, Line Edge Roughness, and Sensitivity of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists (2011)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa and S. Tagawa
  • 雑誌名: J. Photopolym. Sci. Technol 巻: 24巻 ページ: 137-142
  • 査読あり
• [雑誌論文] Thermalization Distance of Electrons Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film Containing Acid Generator upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation (2011)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa and S. Tagawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 50巻 ページ: 030209
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.50.030209
  • 査読あり
• [雑誌論文] Radiation Chemistry in Chemically Amplified Resists (2010)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa and S. Tagawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 49巻 ページ: 030001
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.49.030001
  • 査読あり
• [雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluoronaphthalene as a Candidate for Absorption Enhancement Component of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists (2010)
  • 著者名/発表者名: S. Ikeda, K. Okamoto, H. Yamamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kozawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 49巻 ページ: 096504
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.49.096504
  • 査読あり
• [雑誌論文] Formation and Decay of Fluorobenzene Radical Anions Affected by Their Isomeric Structures and the Number of Fluorine Atoms (2010)
  • 著者名/発表者名: S. Higashino, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kozawa
  • 雑誌名: J. Phys. Chem. A 巻: 114巻 ページ: 8069-8074
  • DOI: DOI:10.1021/jp102828g
  • 査読あり
• [雑誌論文] Evaluation of Chemical Gradient Enhancement Methods for Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists (2009)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 48巻 ページ: 126004
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.48.126004
  • 査読あり
• [雑誌論文] Latent Image Created Using Small-Field Exposure Tool for Extreme Ultraviolet Lithography (2009)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 48巻 ページ: 106506
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.48.106506
  • 査読あり
• [雑誌論文] Correlation between C37 Parameters and Acid Yields in Chemically Amplified Resists upon Exposure to 75 keV Electron Beam (2009)
  • 著者名/発表者名: K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 48巻 ページ: 06FC05
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.48.06FC05
  • 査読あり
• [雑誌論文] Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons (2009)
  • 著者名/発表者名: H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 48巻 ページ: 06FC09
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.48.06FC09
  • 査読あり
• [学会発表] Reaction of thermalized electrons in resist materials (2011)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa
  • 学会等名: 14th International Congress of Radiation Research(招待講演)
  • 発表場所: Warsaw, Poland
  • 年月日: 2011-08-31
• [学会発表] Use Efficiency of Photon, Electron, and Proton in Chemically Amplified Resists-Resist Design for Cost Effective Lithography (2010)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa
  • 学会等名: 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: 小倉(福岡)
  • 年月日: 2010-11-12
• [学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) Generated in Thin Film upon Exposure to Electron Beam (2010)
  • 著者名/発表者名: K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
  • 学会等名: SPIE Advanced Lithography
  • 発表場所: San Jose, California, USA
  • 年月日: 2010-02-22
• [学会発表] Modeling and simulation of chemically amplified resists for EUV lithography (2009)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa and S. Tagawa
  • 学会等名: 7th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
  • 発表場所: Hersbruck, Germany
  • 年月日: 2009-09-27
• [備考]
  • URL: http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/bms/