| 研究概要 |
本研究では,エキソ電子計測系を搭載した二次電子検出装置を開発し,絶縁物への電子・イオン照射による帯電と二次電子放出過程の解明を目指す.また,小型簡易二次電子収率測定ホルダーを試作して収率測定を行うことで,汎用装置を用いた実材料の二次電子収率測定法を確立するとともに,得られた収率のデータベース構築を推進する.さらに,低加速走査電子顕微鏡(SEM)用標準試料を作製し,低速SEMにおける二次電子放出過程の解明を目指す.これらの課題を推進することで,二次電子放出過程に関する新しい知見を得ることを目指す.エキソ電子検出システムについては現在測定システム、特に制御電源系の開発を進めている.本検出器を用いた二次電子検出については,パルスイオン照射システムの電源・制御系の改良による高精度化等を行い,絶縁物からのイオン誘起二次電子収率測定の精度を5倍程度向上させた.さらに絶縁物材料表面へのガス吸着など実材料における収率の変化を調べるための試料処理系を立ち上げ,加熱やガス吸着による収率変化を捉えられるシステムを構築した.また,構築したシステムを用いてMgO膜からの二次電子放出の加熱・ガス吸着による変化を定量的に捉えることに成功した.二次電子収率データベース構築と汎用試料ホルダー開発については,日本学術振興会産学研究協力委員会である第141委員会内に設置した専門委員会において,材料・デバイスを製造している企業等と連携した議論を開始した.また,これらとあわせて,イオンや電子と固体表面との相互作用の解明に関する研究も推進している.
|
