2011 年度研究成果報告書

走査型プローブ顕微鏡によるセラミックスのき裂進展素過程のその場観察

研究課題

研究課題/領域番号	21686062
研究種目	若手研究(A)
配分区分	補助金
研究分野	無機材料・物性
研究機関	横浜国立大学
研究代表者	多々見純一横浜国立大学, 環境情報研究院, 准教授 (30303085)
研究期間 (年度)	2009 – 2011
キーワード	セラミックス / 破壊 / 窒化ケイ素 / 走査型プローブ顕微鏡 / その場観察 / 磁歪材料
研究概要	走査型プローブ顕微鏡に付設可能な小型試験機を開発した。安定破壊を目的として、片側シェブロンノッチ試験片を用いた。Si_3N_4セラミックスでは、き裂は連続的に進展するとは限らず、先端あるいはき裂近傍にマイクロクラックを生成しながら、それらが連結して不連続に進展していくことが観察された。また、磁歪材料であるTerfenol-Dでは、き裂の進展に伴いき裂近傍の磁区構造が変化していく様子が確認された。

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