3次元磁気センサーに用いることを目的として、極低温(~1K)、および、1T程度の強磁場下において使用可能なnano-SQUIDの作製プロセスを開発した。本プロセスでは、nano-SQUIDの臨界電流値を制御性良く作製することを可能とした。また、これらのnano-SQUIDはヒステリシスのないI-V特性を示した。本研究で開発したnano-SQUIDの作製プロセスは、高い素子設計の自由度を有するので、温度や印加磁場などの外部環境や、測定方法に応じて、それぞれの用途に最適化したnano-SQUID の作製に役立つと考えられる。
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