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亜リン酸トリフェニルを用いるホスホール類の簡便合成法を確立した。本手法を用いることで、様々なアリール基をリン原子上に収率40%程度で導入することが可能となった。このうちのいくつかの化合物についてエックス線結晶構造解析に成功し、リン原子への酸素原子の配位状態について明らかにした。更に、固体蛍光測定を行なったところ、フェニル、ナフチルおよびペンタフルオロフェニルホスホール等の内部量子収率は30%を超えることが分かった。なお、これらの有機FET素子への応用についても検討したが、特筆すべき特性は得られなかった。
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